ウェーハ洗浄装置市場規模 - ウェーハサイズ別 (≤ 150 mm、200 mm、300 mm)、技術別 (湿式化学洗浄プロセス、蒸気ドライ洗浄プロセス、水性洗浄プロセス、極低温エアロゾル超臨界流体洗浄プロセス)、装置別 (スクラバー、シングルウェーハスプレーシステム、シングルウェーハ極低温システム、バッチ浸漬洗浄、バッチスプレー洗浄、超音波洗浄装置)、動作モード別 (自動、半自動、手動)、アプリケーション別 (微小電気機械システム (MEMS)、CMOS イメージセンサー (CIS)、メモリ、ロジック、インターポーザ、無線周波数 (RF) デバイス、発光ダイオード (LED))、地理的範囲と予測
Published on: 2024-08-05 | No of Pages : 240 | Industry : latest trending Report
Publisher : MIR | Format : PDF&Excel
ウェーハ洗浄装置市場規模 - ウェーハサイズ別 (≤ 150 mm、200 mm、300 mm)、技術別 (湿式化学洗浄プロセス、蒸気ドライ洗浄プロセス、水性洗浄プロセス、極低温エアロゾル超臨界流体洗浄プロセス)、装置別 (スクラバー、シングルウェーハスプレーシステム、シングルウェーハ極低温システム、バッチ浸漬洗浄、バッチスプレー洗浄、超音波洗浄装置)、動作モード別 (自動、半自動、手動)、アプリケーション別 (微小電気機械システム (MEMS)、CMOS イメージセンサー (CIS)、メモリ、ロジック、インターポーザ、無線周波数 (RF) デバイス、発光ダイオード (LED))、地理的範囲と予測
ウェーハ洗浄装置市場規模と予測
ウェーハ洗浄装置市場規模は、2024年に71億1,000万米ドルと評価され、2024年から2031年にかけて8.5%のCAGRで成長し、2030年までに136億5,000万米ドルに達すると予測されています。
- ウェーハは基本的に、シリコンなどの非常に純粋で欠陥のない半導体材料を使用して作られた薄いシートです。ウェーハは、デバイス上に製造される前に、厳格な化学プロセスを経る必要があります。そのため、表面に付着した塵埃粒子を除去し、半導体デバイスへの応用に役立つ洗浄装置の必要性が急増しています。
- ウェーハ洗浄装置は、半導体製造プロセスへの応用のために設計された特殊な技術です。シリコンウェーハから塵埃、粒子、有機残留物、金属イオンなどの汚染物質を除去するのに役立ちます。
- 半導体業界では、ウェーハ洗浄はウェーハ表面に汚染がないことを確認する重要なステップです。汚染はウェーハに組み込まれたデバイスの電気的特性に影響を与える可能性があり、大きな歩留まり損失とデバイス障害につながります。
- したがって、ウェーハ洗浄装置は、半導体デバイスの歩留まりと品質を向上させるための半導体製造プロセスの重要な部分です。
- ウェーハは、フラットパネルディスプレイ、MEMS、化合物半導体デバイス、プリント回路基板（PCB）などで広く使用されています。このウェーハ需要の高まりにより、効率的なウェーハ洗浄および製造プロセスを提供するためのウェーハ洗浄装置の採用が促進されると予測されています。
- たとえば、2023 年 8 月、Infineon Technologies AG は、200 mm SiC ファブの歩留まりを向上させるために、マレーシアの製造ユニットを拡張する決意を発表しました。組織におけるこのような発展は、世界中でウェーハの応用が拡大していることを示しています。
世界のウェーハ洗浄装置市場のダイナミクス
世界のウェーハ洗浄装置市場を形成する主要な市場ダイナミクスは次のとおりです。
主要な市場推進要因
- あらゆる規模の企業における先端技術の浸透 5Gネットワーク、モノのインターネット (IoT)、人工知能 (AI) などの先端技術に対する認識の高まりにより、スマートフォン、ウェアラブル、AIチップ、GPU、スマートホーム、集積回路 (IC)、その他のデバイスの使用が増加しています。これにより半導体の需要が刺激され、ウェーハ洗浄装置の売上がさらに伸びると考えられます。
- 小型半導体デバイスの需要増加 ムーアの法則の実践が進むにつれ、メーカーは半導体デバイスのサイズを縮小する一方で、複雑さを増す傾向にあります。サイズのばらつきにより、徹底的かつ精密なウェーハ洗浄装置の需要が高まると予測されています。
- 今後の技術におけるウェーハの適用拡大 さまざまなビジネスにおける 3D NAND フラッシュ、高アスペクト比 (HAR) エッチング、極端紫外線 (EUV) リソグラフィーの適用拡大により、純粋でダストのないウェーハの使用が必須となり、が生じます。
- 厳格な政府の規則と規制電子業界では、温室効果ガスの排出量と廃棄物の発生を抑えるために環境に優しい技術に対する需要が高まっており、ウェーハ洗浄装置市場に新たな成功の道が開けると予想されます。
- 自動車業界での自動化の採用拡大 事故の増加により、先進運転支援システム (ADAS) と自律走行車の需要が高まっています。自動車産業におけるこのようなイノベーションは半導体の需要を刺激し、それによって自動化システムと互換性のあるウェーハ洗浄装置の需要を促進します。
- AI ベースのチャットボットの人気の高まり ChatGPT などの AI ベースのチャットボットに関する知識の高まりにより、大容量メモリとストレージ デバイスの需要が高まり、半導体産業の成長見通しが広がっています。ウェーハ洗浄装置の売上を後押しするのは、生成 AI ソリューションの需要です。
主な課題
- 高い装置コストウェーハ洗浄装置の製造コストは、小規模な予算の組織による導入の大きな課題となり、ウェーハ洗浄装置の売上を妨げています。また、洗浄装置の進歩は、市場の拡大を妨げる可能性があります。
- 小型化と複雑さの課題極小デバイスの需要の高まりにより、ウェーハに組み込まれた半導体、回路、またはチップの複雑さが増すことは間違いありません。これにより、保管寿命とメンテナンス期間を延ばすために、より高いレベルの清浄度が求められるようになると思われます。そのため、中小企業での導入が抑制されることになります。
- 革新的な洗浄プロセスの環境への影響 ウェーハ洗浄プロセス中に発生する有毒物質や廃棄物は、半導体メーカーにとって大きな課題となっています。そのため、世界中の政府によって施行された厳格な環境規制は、半導体業界にとって懸念事項です。これらすべての側面により、ウェーハ洗浄装置の売上が急落すると予想されます。
- 熟練した専門家の不足 ウェーハ洗浄装置の取り扱いとメンテナンスに関する専門知識の不足により、装置の寿命と運用効率が低下すると予想されます。これは大きな問題となる可能性があります。
- 世界経済と地政学上の問題中国と米国、ロシアとウクライナなどの国々の間の貿易戦争やその他の地政学上の問題によって生じる経済的不確実性はすべて、半導体デバイスのサプライ チェーンを混乱させる原因となり、ウェーハ洗浄装置市場に影響を及ぼす可能性があります。
主な傾向
- 高精度洗浄装置の市場拡大集積回路の複雑さにより、極小の粒子や汚染物質も除去できる高精度洗浄装置が求められています。これにより、革新的な洗浄装置の製造業者にとって、より広い範囲が提供されます。
- 半導体需要の高まりスマート エレクトロニクス、人工知能、モノのインターネット (IoT)、および高度なテクノロジに対する需要の増加により、半導体デバイスが急速に採用され、ウェーハ洗浄装置の需要が促進されると予測されています。
- 新興市場での用途の増加医療機器、フラット パネル ディスプレイ、および太陽電池メーカーの間でウェーハ洗浄装置の需要が急増しており、ウェーハ洗浄装置市場の成長の見通しが急上昇しています。
業界レポートの内容は?
当社のレポートには、実用的なデータと将来を見据えた分析が含まれており、売り込み、事業計画の作成、プレゼンテーションの作成、提案書の作成に役立ちます。
世界のウェーハ洗浄装置市場の地域分析
世界のウェーハ洗浄装置市場のより詳細な地域分析は次のとおりです。
北米
- 米国などの発展途上国では可処分所得の増加により、スマートフォン、スマートウェアラブル、その他のスマートエレクトロニクスの採用が促進され、半導体に対する大きな需要が生まれています。したがって、日常生活におけるこのような高度な技術の導入が増えると、この地域でのウェーハ洗浄装置の売上が急増する可能性があります。
- また、使いやすさと魅力的な外観を提供する小型でポータブルなデバイスの人気が高まっているため、この地域のマイクロチップメーカーは、より小さなチップの製造に努めざるを得ません。このような小さな技術の洗浄は、市場拡大の見通しを高めています。
- 全体として、これらの要因により、北米は世界のウェーハ洗浄装置市場で大幅な成長を示しています。
アジア太平洋地域
- アナリストによると、予測期間中、アジア太平洋地域がウェーハ洗浄装置市場を支配すると予測されています。中国、台湾、日本、韓国などの新興国における半導体産業の繁栄は、世界のウェーハ洗浄装置市場における地域の優位性を確保することに貢献する主な要因の1つです。
- 原材料の容易な入手性、有利な人件費、製造施設の出現など、他のすべての側面が今後数年間で市場の成長を促進すると予想されます。
- たとえば、2022年3月、東京に本拠を置く昭和電工株式会社は、SiCパワー半導体への統合用に150mmのシリコンカーバイド単結晶ウェーハ（SiCウェーハ）の大規模生産を発表しました。このような成果は、アジア太平洋地域のウェーハ洗浄装置市場がグローバルプラットフォームでの足場を強化するための思いがけない利益です。
世界のウェーハ洗浄装置市場：セグメンテーション分析
世界のウェーハ洗浄装置市場は、ウェーハサイズ、技術、装置、動作モード、アプリケーション、および地理に基づいてセグメント化されています。
ウェーハ洗浄装置市場、ウェーハサイズ別
- ≤ 150 mm
- 200 mm
- 300 mm
ウェーハサイズに基づいて、市場は≤ 150 mm、200 mm、および300 mmに分類されます。300 mmウェーハサイズのセグメントが市場で最大シェアを占めると予想されます。300mmサイズのウェーハのより高い集積回路収容能力は、それらの需要を強化すると予測されます。これにより、低コストで生産性が向上し、世界中の電子機器および半導体メーカーによる 300 mm ウェーハの採用が増加する可能性があります。
ウェーハ洗浄装置市場、技術別
- 湿式化学洗浄プロセス
- 蒸気ドライ洗浄プロセス
- 水性洗浄プロセス
- 極低温エアロゾルおよび超臨界流体洗浄プロセス
- 新興技術
技術に基づいて、市場は湿式化学洗浄プロセス、蒸気ドライ洗浄プロセス、水性洗浄プロセス、極低温エアロゾルおよび超臨界流体洗浄プロセス、および新興技術に分かれています。メガソニック洗浄技術は、液体媒体内で高周波音波を使用して、ウェーハから汚染物質を攪拌して除去します。プラズマベースの洗浄プロセスでは、イオン化ガスを使用してウェーハ表面から粒子や汚染物質を除去します。レーザー洗浄は、下地の材料に損傷を与えることなく、ウェーハから汚染物質を選択的に除去するために使用されます。ナノスケール洗浄の新興技術は、原子層エッチングや原子層堆積などの高度な技術を使用して、汚染物質を正確かつ制御的に除去するナノスケール レベルでの洗浄に重点を置いています。環境の持続可能性がますます重視される中、ウェーハ洗浄装置の新興技術は、環境に優しくエネルギー効率の高い洗浄プロセスの開発、有害な化学物質の使用の削減、水の消費量の最小化を目指しています。
ウェーハ洗浄装置市場、装置別
- シングルウェーハスプレーシステム
- シングルウェーハ極低温システム
- バッチ浸漬洗浄システム
- バッチスプレー洗浄システム
- 超音波洗浄装置
- スクラバー
装置に基づいて、市場はシングルウェーハスプレーシステム、シングルウェーハ極低温システム、バッチ浸漬洗浄システム、バッチスプレー洗浄システム、およびスクラバーに分かれています。シングルウェーハスプレーシステムは、デバイスのパフォーマンスを向上させ、汚染の可能性とウェーハの損傷の可能性を減らしました。これらの要因は、近い将来、この市場を牽引すると予想されます。したがって、シングルウェーハスプレーシステムセグメントは、予測期間中に最高のCAGRで成長すると予想されます。
ウェーハ洗浄装置市場、動作モード別
- 自動
- 半自動
- 手動
動作モードに基づいて、世界のウェーハ洗浄装置市場は、自動、半自動、および手動に分類されます。自動セグメントは、動作モードセグメントを支配すると予測されています。自動洗浄装置の高速洗浄、高品質洗浄、および高効率は、半導体業界でのその適用を促進しています。また、エラーを回避し、パフォーマンスを向上させ、熟練労働者への依存を回避するために人間の介入が少ないことは、自動ウェーハ洗浄装置に大きなチャンスを生み出す可能性があります。自動セグメントはウェーハ洗浄装置市場で重要な位置を占めると予想されますが、半自動および手動セグメントの需要は依然として成長し続けます。これらは、自動装置のコストが予算に優しくない場合に役立ちます。
ウェーハ洗浄装置市場、アプリケーション別
- 微小電気機械システム (MEMS)
- CMOS イメージ センサー (CIS)
- メモリ
- ロジック
- インターポーザ
- 無線周波数 (RF) デバイス
- 発光ダイオード (LED)
- その他
アプリケーションに基づいて、市場は MEMS、CIS、メモリ、RF デバイス、およびその他の 2 つに分かれています。MEMS デバイスには、クリーンかつ正確な製造プロセスが必要であるため、その製造にはウェーハ洗浄装置が不可欠です。カメラやイメージング システムで広く使用されている CIS デバイスは、高画質と高性能を確保するためにクリーンなウェーハに依存しています。ウェーハ洗浄装置は、NAND フラッシュ メモリなどのメモリ デバイスの製造において、その機能と信頼性を維持するために不可欠です。 、フィルタ、トランシーバなどの RF デバイスでは、無線通信システムで最適なパフォーマンスを確保するためにクリーンなウェーハが必要です。LED 業界では、ウェーハ洗浄装置を利用して LED ウェーハの品質と効率を維持し、高性能照明ソリューションの生産を可能にしています。
ウェーハ洗浄装置市場、地域別
- 北米
- ヨーロッパ
- アジア太平洋
- その他の地域
地域分析に基づいて、世界のウェーハ洗浄装置市場は、北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、その他の地域に分類されています。日本、韓国、台湾を含むアジア太平洋の新興国は、電子機器の主要メーカーです。そのため、アジア太平洋地域は成長産業への主な貢献者になると予想されています。北米などの地域は、アジア太平洋地域に続き、わずかな成長を示すと予想されます。
主要プレーヤー
「世界のウェーハ洗浄装置市場」調査レポートは、世界市場に重点を置いた貴重な洞察を提供します。市場の主要プレーヤーは、芝浦メカトロニクス株式会社、LAMリサーチ、アプライドマテリアル、株式会社SCREENホールディングス、東京エレクトロン株式会社、PVA TePLA AG、KLA株式会社、Entegris株式会社、SEMES株式会社、Modutek株式会社、AXUS Technology、Ultron Systems, Inc.、Semsysco GmbH、Cleaning Technologies Group、大日商事株式会社、RENA Technologies GmbH、北京TSD半導体設備有限公司、東邦化成株式会社、Orbray株式会社、およびVeeco Instrumentsです。
当社の市場分析には、このようなに特化したセクションが含まれており、アナリストが各プレーヤーの財務諸表の概要、製品のベンチマーク、SWOT分析を示しています。競争環境のセクションには、上記のプレーヤーの主要な開発戦略、市場シェア分析、および市場ポジショニング分析も含まれています。
ウェーハ洗浄装置市場の主要な開発
- 2023年2月、Veecoは、急速に拡大しているシリコンカーバイド(SiC)エピタキシー装置市場への参入を加速させることを目的として、Epiluvac ABを買収しました。Epiluvac ABを買収することにより、VeecoはSiCエピタキシー装置分野での地位と市場プレゼンスを強化する予定です。
- 2023年7月、東京エレクトロン株式会社は山梨県に新社屋の開発を完了しました。この拡張は、半導体産業向けの新製品の開発をサポートすると予想されています。
- 2023年1月、株式会社SCREENホールディングスは、半導体装置製造用の新棟「S-Cube 4」の完成を発表しました。
- 2023年4月、Amtech Systems、Inc.は、300mmクラスター型水平ディスカッションデバイスの複数の注文を獲得しました。この970万米ドル相当の注文は、2024年度半ばまでに出荷される可能性があります。このディスカッションシステムが提供する機能の一部には、ウェーハの滑りに対する耐性と高温での効率性が含まれます。これにより、北米とアジア太平洋地域でこれらのシステムの需要が高まります。
- 2023年4月、Noel Technologiesは、キャンベルのウェーハ工場を拡張すると発表しました。この拡張は、半導体のOEM、統合デバイスの大手メーカー、およびファブを持たない組織にとって恩恵となります。さらに、Pure Wafer は、米国の半導体メーカーとその OEM の需要を満たすために、MEMS およびバイオエンジニアリング サービスを強化するために、Noel Technologies の Campbell 施設に投資することを決定しました。v
レポートの範囲
| レポートの属性 | 詳細 |
|---|---|
| 調査期間 | 2021-2031 |
| ベース年 | 2024 |
| 予測期間 | 2024-2031 |
| 履歴期間 | 2021-2023 |
| 単位 | 価値（10億米ドル） |
| 主要企業紹介 | 芝浦メカトロニクス株式会社、LAMリサーチ、アプライドマテリアル、株式会社SCREENホールディングス、東京エレクトロン株式会社、PVA TePLA AG、KLA株式会社、Entegris株式会社、SEMES株式会社、Modutek株式会社、AXUSテクノロジー、Ultron Systems株式会社、Semsysco GmbH、クリーニングテクノロジーズグループ、ダイニチShoji KK、RENA Technologies GmbH、Beijing TSD Semiconductor Equipment Co., Ltd.、Toho Kasei Co., Ltd.、Orbray Co., Ltd.、および Veeco Instruments です。 |
| 対象セグメント | ウェーハサイズ別、テクノロジー別、装置別、動作モード別、アプリケーション別、および地域別。 |
| カスタマイズ範囲 | 購入時にレポートのカスタマイズが無料（アナリストの営業日最大 4 日分に相当）。国、地域、およびセグメント範囲の追加または変更 |