フォトリソグラフィー装置市場 - 2017~2027年の世界産業規模、シェア、トレンド、機会、予測、タイプ別(EUV(極端紫外線)、DUV(深紫外線))、DUVタイプ別(ArFi(フッ化アルゴン液浸、KrF(フッ化クリプトン)、ArF(フッ化アルゴン)、Iライン))、波長別(1nm~170nm、170nm~270nm、270nm~370nm)、デバイス波長別(水銀ランプ、フッ素ランプ、エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ)、最終用途別(IDM(統合デバイスメーカー)、ファウンドリ)、アプリケーション別(バックエンド、フロントエンド)、地域別

Published Date: January - 2025 | Publisher: MIR | No of Pages: 320 | Industry: ICT | Format: Report available in PDF / Excel Format

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フォトリソグラフィー装置市場 - 2017~2027年の世界産業規模、シェア、トレンド、機会、予測、タイプ別(EUV(極端紫外線)、DUV(深紫外線))、DUVタイプ別(ArFi(フッ化アルゴン液浸、KrF(フッ化クリプトン)、ArF(フッ化アルゴン)、Iライン))、波長別(1nm~170nm、170nm~270nm、270nm~370nm)、デバイス波長別(水銀ランプ、フッ素ランプ、エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ)、最終用途別(IDM(統合デバイスメーカー)、ファウンドリ)、アプリケーション別(バックエンド、フロントエンド)、地域別

世界のフォトリソグラフィー装置市場は、2021年に159億402万米ドルに達し、2027年までに16.70%のCAGRを記録すると予測されています。フォトリソグラフィー装置の需要は、主に小型電子機器の需要の高まり、モノのインターネットの普及率の増加、半導体産業の拡大によって推進されています。さらに、装置の運用および保守コストの高さ、曲面の制限などの要因が、世界のフォトリソグラフィー装置市場の成長を妨げています。これに加えて、COVIDパンデミック中のロックダウンは、全体的なサプライチェーンと消費者向けデバイスの需要に影響を与えました。一方、パンデミック中のウェーハ需要の減少は、世界中のフォトリソグラフィー装置の成長を低下させます。

フォトリソグラフィーと呼ばれるタイプのリソグラフィー装置は、光を使用して基板にパターンを刻印します。材料を微細なディテールでエッチングすることにより、このパターンを使用して回路基板やマイクロチップなどの製品を作ることができます。半導体およびマイクロエレクトロニクス業界では、フォトリソグラフィー装置を使用して、基板上に薄いシート状の材料をパターン化します。基板上に非常に小さな物体を製造できるのが、フォトリソグラフィー装置の主な利点です。さらに、画像から特定のパターンを基板に転写し、エッチングまたは拡散プロセス中にマスクとして機能するパターンを作成して、半導体デバイス、薄膜回路、光学デバイス、およびプリント回路を作成するために使用されます。

消費者向け先進的消費者製品の出現

消費者向けエレクトロニクスの世界で人気が高まっているのは、スマートホームデバイス、ウェアラブルヘルスモニター、およびエンターテイメントデバイスです。消費者は、高い電気代を節約するために、スマートサーモスタット、電球、スイッチなどのエネルギー効率の高いスマートホーム製品に引き寄せられると予想されます。したがって、完全に自動化されたシステムから、すべての家庭用デバイスを相互接続して単一の制御ユニットを作成するスマートホームの出現に向けて電子製品が移行すると、ICとフォトリソグラフィー技術の採用が高まります。より優れた電子機器を求める消費者の需要が高まっているため、メーカーは機能が向上したより優れた消費者向け製品を導入するよう求められています。

半導体業界におけるウェーハ処理および製造能力の向上

チップ性能の向上が優先

AI アプリケーションの進歩の導入とクラウド性能の向上は、どちらも DUV タイプのフォトリソグラフィー方式で可能です。クラウドおよび AI アプリケーションでは、より優れたチップ性能とより低い電力要件が優先されます。さらに、DUV リソグラフィー システムの需要増加の結果、レーザー ライターを製造するフォトマスク製造業者は、複雑なマルチパターニング DUV リソグラフィー操作に必要なフォトマスクの製造をスピードアップせざるを得なくなっています。DUV リソグラフィー システムは、EUV プラットフォームよりも市場見通しが高いことが判明しています。予測期間中、これらの開発は世界のフォトリソグラフィー装置市場の拡大をサポートすると予想されます。

小型電子機器の需要増加

高性能電子機器の需要が高まるにつれて、小型電子機器は半導体業界で人気が高まっています。さらに、革新的な民生用電子機器の需要の高まりにより、フレキシブルでコンパクトな集積回路の必要性が高まっています。さらに、RFID、MEMSデバイス、その他のパワーデバイスなどの技術の成長により、薄型ウェーハの需要が高まっています。これは、特にスマートフォン、ハンドヘルドガジェット、小型電子機器の場合、薄型ウェーハによってパッケージの厚さが薄くなるためです。極薄および極薄ダイを採用するこれらの開発中のアプリケーションは、小型電子デバイスに対する大きな需要を生み出し、世界のフォトリソグラフィー装置市場の拡大に貢献しています。


MIR Segment1

研究開発への投資の増加

人工知能と機械学習は、近年半導体業界によって可能になった画期的な技術の2つの例です。さらに、デジタル革命を進めるには、より強力な処理能力とメモリ能力を備えたさらに高度なデバイスが必要になります。さらに、COVID-19危機によるサプライチェーンの混乱と地政学的緊張の高まりの結果、半導体企業は最先端技術のエンドツーエンドの設計および製造能力を確立することにますます関心を寄せています。多くの政府はこの関心を共有しているため、地域の半導体セクターの促進に取り組んでおり、これはおそらく世界のフォトリソグラフィー装置市場に影響を与えるでしょう。たとえば、韓国は地域クラスターに集中するために、Kベルト半導体戦略を立ち上げました。この計画には、緩やかな規則、インフラの改善、8億8,600万ドルの長期融資、研究開発に対して最大50%、製造に対して16%の大幅な税額控除が含まれています。したがって、予測期間中の世界的なフォトリソグラフィー装置市場の拡大は、半導体産業だけでなく、R&D活動の拡大によっても促進される可能性が高いです。

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市場セグメンテーション

世界のフォトリソグラフィー装置市場

企業プロファイル

ASML Holding NV、

属性

詳細

2021年の市場規模の価値

USD 15,904.02 百万

2027 年の収益予測

USD 39,320.82 百万

成長率

16.70%

基準年

2021

過去の年

2017~2020

推定年

2022

予測期間

2023–2027

定量単位

2017~2021年および2022~2027年の収益(百万米ドル)およびCAGR

レポートの対象範囲

·        収益予測、企業シェア、競合状況、成長要因、傾向

対象セグメント

·        タイプ別

o   DUV タイプ別

·        波長別

·         デバイス波長別

·        最終用途別

·         アプリケーション別

·        地域別

地域範囲

アジア太平洋、北米、ヨーロッパ、南米、中東、アフリカ。

主要企業プロファイル

ASML Holding NV、Canon Inc.、EV Group (EVG)、GlobalFoundries Inc.、Nikon Corporation、Veeco Instruments Inc.、SUSS MicroTec SE、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited、Eulitha AG、ニューフレアテクノロジー株式会社

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