フォトレジスト市場 - 2018～2028年の世界産業規模、シェア、トレンド、機会、予測、タイプ別（ARF液浸フォトレジスト、ARFドライフォトレジスト、KRFフォトレジスト、GラインおよびIラインフォトレジスト）、アプリケーション別（半導体およびIC、LCD、プリント回路基板、その他）、地域および競合状況別

市場概要

世界のフォトレジスト市場は2022年に37億6,000万米ドルと評価され、2028年までの予測期間中に4.26%のCAGRで堅調な成長が見込まれています。フォトレジストとリソグラフィープロセスは、最先端の研究から大量生産まで、幅広い高度な技術分野で不可欠なものになっています。これらには、IC、MEMS、マイクロエレクトロニクス、マイクロ流体、データストレージ技術、バイオテクノロジーなどが含まれます。リソグラフィーの分野では、ポリマーベースのリソグラフィー手順が広く採用され、目覚ましい進歩が見られました。これらの手順の中で、電子ビームと光リソグラフィーは、学術的および産業的環境の両方で最も一般的に使用されている技術として際立っています。特に、光リソグラフィーはマイクロおよびナノファブリケーションの活動に革命をもたらし、100 nm 未満のポリマー構造の大量生産を可能にしました。この驚くべき進歩は、レジスト設計、ポリマー、材料製造方法、およびその他の関連技術を開発し、最終的に過去 50 年間のリソグラフィー プロセスの進化を形作った多数の科学者とエンジニアのたゆまぬ努力によって推進されてきました。

ナノテクノロジーの広範な使用により、MEMS および NEMS デバイスの急速な導入への道が開かれました。ナノデバイスは、そのコンパクトなサイズ、軽量、低消費電力、およびコスト効率の良さから人気が高まっています。継続的な技術革新により、これらのデバイスの商品化により、フォトレジストとその付属品の市場見通しが大幅に拡大しました。この傾向の顕著な例の 1 つは、Intel が 28nm から 20nm ベースの新技術に移行していることであり、これが半導体業界におけるフォトレジストとその付属品の需要を牽引すると予想されています。

フォトポリマー フォトレジスト、光分解フォトレジスト、光架橋フォトレジストはすべて、フォトレジストに使用される化学構造の例です。半導体の世界的な需要は大幅に増加しており、フォトレジストの需要も急増しています。さらに、電気および電子業界では、LCD と OLED の人気の高まりに牽引されて、フォトレジストの需要が急増しています。さらに、フォトレジストがさまざまな車載アプリケーションで使用されている自動車部門の成長により、市場の拡大がさらに促進されると予想されます。これらの要因が相まって、フォトレジスト市場の継続的な成長に貢献しています。

ただし、リソグラフィー プロセスにおけるフォトレジスト材料のコストは、フォトレジストとその付属品の市場成長に対する大きな障壁となっています。コストは、IC のロジックの複雑さと、レイアウトおよびエッジ配置エラーの発生に応じて異なります。たとえば、NAND ロジックは特にコストに敏感であるため、サプライヤーは世代を超えてピッチ分割技術を採用しています。さらに、パターン化は単なるリソグラフィー以上のものを含むことに留意することが重要です。パターン化には大量の精密材料の設計が含まれ、製造プロセス全体の複雑で重要な側面になります。

主要な市場推進要因

MEMS とセンサーの需要の増加

フォトレジストは、微小電気機械システム (MEMS) やセンサーの製造を含むさまざまな微細加工プロセスで使用される光に敏感な材料です。これらのコンポーネントは、スマートフォンやウェアラブル技術から自動車システムや産業機器に至るまで、幅広いデバイスで重要な役割を果たしています。これらの市場が拡大し進化し続けるにつれて、MEMS とセンサー、そしてそれらの製造に使用されるフォトレジストの需要は飛躍的に増加すると予想されます。

MEMS とセンサーの製造におけるフォトレジストの重要な役割を考えると、これらの市場の成長は世界のフォトレジスト市場に直接影響を及ぼします。フィットネス トラッカーやスマートウォッチなどのウェアラブル デバイスや小型デバイスの需要の増加は、フォトレジストの消費の主な原動力となっています。さらに、医療機器やモノのインターネット (IoT) 技術の進歩により、MEMS とセンサーの需要がさらに高まり、フォトレジスト市場の成長に貢献しています。

結論として、世界中で MEMS とセンサーの需要が増加していることが、世界のフォトレジスト市場の成長を牽引しています。技術が進歩し続け、MEMS とセンサーがさまざまなデバイスに統合されるようになると、フォトレジストの需要もそれに応じて増加すると予想されます。したがって、フォトレジスト市場の将来は有望に見え、MEMS とセンサーの需要の高まりが、その持続的な成長と発展において極めて重要な役割を果たしています。

半導体技術の進歩

現在、世界のフォトレジスト市場は大幅な急増を経験しており、この成長を牽引する主な要因の 1 つは、半導体技術の継続的な進歩です。世界がますます高度な電子機器に向かって進歩するにつれて、より小型で効率的な半導体の需要が高まっています。この需要は、間接的にフォトレジストの必要性を高めています。

フォトレジストは、さまざまな表面にパターン化されたコーティングを形成することにより、フォトリソグラフィーと写真製版プロセスで重要な役割を果たしている感光性材料です。これらの技術は、集積回路 (IC) やその他のマイクロ電子部品の作成に複雑なパターンが不可欠な半導体の製造において非常に重要です。

半導体技術は、ムーアの法則の絶え間ない追求によって、信じられないほどのペースで進歩してきました。このよく知られた原理によれば、チップ上のトランジスタは約 2 年ごとに倍増します。この急速な進歩の結果、私たちは、より小型で効率的な半導体の開発を目の当たりにし、強力でコンパクトな電子機器の作成を可能にしました。

さらに、5G、モノのインターネット (IoT)、人工知能 (AI)、機械学習などの新興技術により、半導体技術の限界がさらに押し広げられています。これらの革新には、これらの最先端技術の計算要求に対応できる高度な半導体の開発が必要です。

半導体技術の進歩は、世界のフォトレジスト市場に直接影響を及ぼします。より小型で複雑な半導体を作成するために、メーカーはより微細なパターンを高精度で生成できる高度なフォトレジストを必要としています。その結果、高性能フォトレジストの需要が著しく増加し、フォトレジスト市場の成長にさらに貢献しています。

結論として、半導体技術の進歩は、世界のフォトレジスト市場の推進に重要な役割を果たしています。半導体技術が進歩し続けるにつれて、高性能フォトレジストの需要が増加し、フォトレジスト市場の成長が促進されると予想されます。この継続的な傾向は、半導体技術とエレクトロニクス業界全体の将来を形作る上でフォトレジストが果たす重要な役割を強調しています。

主要な市場の課題

サプライチェーンの混乱

パンデミックが始まって以来、サプライチェーンの混乱は世界経済にとって重大かつ永続的な課題となっています。工場の広範囲にわたる閉鎖と物流および規制上の障害が相まって、複雑な困難の網を生み出し、市場が混乱から回復することを非常に困難にしています。この状況はフォトレジスト市場に特に当てはまります。フォトレジスト市場では、こうした混乱により生産に大幅な遅れが生じ、コストの増加や競争力の低下につながる可能性があります。

サプライチェーンの混乱の影響は、個々の業界が直面している当面の課題にとどまりません。さまざまなセクターに連鎖的な影響が波及し、電子機器の心臓部であるチップの世界的な不足が深刻化する可能性があります。この不足は、特にフォトレジスト市場において懸念材料となっています。フォトレジストは、これらのチップの複雑な製造プロセスで重要な役割を果たしているからです。フォトレジストへの依存度が高いため、世界中で高まる電子機器の需要を満たすには、フォトレジストの入手性とサプライチェーンへのシームレスな統合が不可欠です。

主要な市場動向

環境および規制へのコンプライアンス

フォトレジスト市場における環境および規制へのコンプライアンスは極めて重要です。半導体の製造に使用される感光性材料であるフォトレジストは、現代のデジタル経済において重要な役割を果たしています。しかし、フォトレジストの製造プロセスには、環境に影響を与える可能性のある化学物質の使用が含まれます。その結果、これらの影響を管理および緩和し、厳格な環境規制を遵守することが、フォトレジスト市場の重要な側面になっています。

環境規制への準拠は、環境保護を確実にするだけでなく、生産コストと化学配合の選択にも大きな影響を及ぼします。規制が厳しくなると、規制要件を満たす環境に優しい代替品を見つけるための研究開発に重点が置かれるようになりました。多くの企業は現在、効果的であるだけでなく環境に優しい高度なフォトレジスト剥離剤の開発に積極的に取り組んでいます。

フォトレジスト市場におけるより厳格なコンプライアンス対策によってもたらされる課題により、メーカーは製品の品質や収益性を損なうことなくこれらの要件を満たすための新しい方法と革新的なアプローチを模索するようになりました。この傾向に適応するには、多面的なアプローチが必要です。企業は、環境フットプリントを削減するために、グリーンテクノロジーと持続可能な慣行に投資して採用しています。さらに、規制当局との緊密な連携は、進化する環境規制への準拠を確実にするために不可欠です。

環境および規制の遵守への移行は、フォトレジスト市場における大きな革新も推進してきました。企業は環境規制に準拠した新製品の開発を余儀なくされており、新しい技術と持続可能なソリューションの出現につながっています。この傾向は環境問題に対処するだけでなく、市場の成長と差別化の機会も提供します。

結論として、環境および規制の遵守は、世界のフォトレジスト市場における重要かつ継続的な傾向です。課題を提示する一方で、革新、成長、持続可能性の機会も開きます。市場が進化し続ける中、このトレンドをうまく乗り越え、環境に優しい慣行を採用する企業は、将来的に繁栄し、主導権を握る立場に立つことになるでしょう。

セグメント別インサイト

タイプ別インサイト

タイプ別では、ARF液浸フォトレジストセグメントが2022年のフォトレジストの世界市場で主要なプレーヤーとして浮上しました。ArFフォトレジストは、新しいテクノロジーの高度な要件を満たすために、さまざまな業界で広く利用されています。これらのフォトレジストは、光源の最短波長を活用し、非常に高い解像度を実現します。半導体メーカーが製品の小型化を進める中、ArF フォトレジストの需要が高まっています。

半導体分野では、ARF 液浸フォトレジストが特に大規模集積回路 (LSI) の回路で重要な役割を果たしています。光源の周波数が制限され、屈折率が高い ARF 液浸フォトレジストを利用することで、フォトレジスト ユーザーは製品の小型化と性能向上のニーズを満たすことができます。さらに、ARF ドライ フォトレジストの需要が高まっており、このコンポーネントの成長がさらに促進されています。

アプリケーション インサイト

半導体および IC セグメントは、予測期間中に急速な成長が見込まれています。電子機器としても知られる半導体は、特定の条件下で特定の電気特性を示す材料を使用して製造されます。集積回路 (IC) は回路基板の小型版であり、抵抗器、コンデンサ、半導体などの多数の小さな電子部品で構成されています。これらの IC はさまざまな電子機器で広く使用されており、このような機器の需要の高まりが市場の成長に貢献しています。

製造プロセスでは、フォトレジストを使用して、半導体のベースとなるシリコン ウェーハの外表面に保護層を作成します。さらに、スピン コーティングは、フォトレジスト層を薄くするために一般的に使用される手法で、通常は約 1 マイクロメートルの厚さです。これにより、半導体上の薄膜の均一性が確保されます。シリコン ウェーハとスピン コーティングはどちらも、半導体製造プロセスで重要な役割を果たします。

半導体の需要の高まりは、フォトレジスト市場の成長を促進します。これらの材料は半導体製造に不可欠なコンポーネントだからです。電子技術の継続的な進歩に伴い、効率的で高性能な半導体に対するニーズは拡大し続けており、市場の進歩と発展を促進しています。

地域別インサイト

2022 年、アジア太平洋地域が世界のフォトレジスト市場で主要なプレーヤーとして浮上し、価値の面で最大の市場シェアを占めました。アジア太平洋地域は、エレクトロニクス業界にとって最大かつ最も急速に成長している市場として際立っています。この成長は、スマートデバイスの普及や消費者向けエレクトロニクスの需要の増加など、いくつかの要因に起因しています。韓国、中国、台湾、インド、日本などのアジア太平洋地域の国々は、活気のあるエレクトロニクス業界からの需要の増加により、フォトレジスト化学品の地域市場のリーダーとしての地位を確立しており、それが市場全体の発展を促進しています。

特に中国は世界最大のエレクトロニクス製造拠点を誇り、韓国、シンガポール、台湾などの既存の上流メーカーと激しい競争を繰り広げています。さまざまな消費者向けエレクトロニクス分野の中で、スマートフォン、OLED TV、タブレットなどの電子製品は、市場の強い需要を反映して、最も高い成長率を示しています。中流階級の可処分所得の増加に伴い、電子製品の需要は予測期間を通じて着実に増加し、市場の成長をさらに促進すると予想されます。さらに、中国の電子機器製造業界は、生産コストの低さと電子製品の需要の増加により、大幅な拡大を遂げています。

最近の開発

• 2022年12月、デュポンはCYCLOTENE先進電子樹脂の発売で注目を集めました。この画期的なフォトイメージング可能な誘電体（PID）ドライフィルム材料は、高度な半導体パッケージングアプリケーションに革命をもたらすでしょう。より高いレベルの統合、より短い相互接続パス、およびより多くのI / Oが約束されているこれらの新しいパッケージング技術には、高い機能性と性能だけでなく、並外れた信頼性も提供する信頼性の高い誘電体材料が必要です。 CYCLOTENEは、優れた解像度、低い吸湿性、優れた熱安定性を誇り、あらゆる面で優れています。
• 2022年10月、JSR株式会社がJSR Electronic Materials Koreaの全株式を取得したことで、半導体材料業界で重要な展開がありました。この動きは、日本企業と韓国の化学材料販売業者であるPeri Corp.との間で2014年に確立されたパートナーシップを強化するものです。持分比率の変更により、韓国での半導体材料の生産と研究開発が促進され、この分野のさらなる進歩への道が開かれると期待されています。
• 2022年8月、JSR株式会社は臨港特別区政府との投資協定を締結し、中国でのプレゼンス拡大に向けて大きな一歩を踏み出しました。この契約は上海に子会社を設立する準備を整えるもので、JSRグループが中国で行っている事業、特に半導体材料の分野を強化する態勢が整っています。この戦略的な動きにより、JSR株式会社は中国の急成長する半導体市場に参入し、その成長と発展に貢献する立場になります。

主要な市場プレーヤー

• ALLRESISTGmbH
• 旭化成株式会社
• DJ MicroLaminates, Inc.
• DuPont de Nemours Inc
• FUJIFILM Holdings America Corporation
• JSR株式会社。
• KOLON Industries, Inc
• Microchemicals GmbH
• 住友化学株式会社
• 信越化学工業株式会社