Marché mondial de la lithographie dans l’ultraviolet extrême (EUV) – Taille de l’industrie mondiale, part, tendances, opportunités et prévisions segmentées par nœud technologique (7 nm et moins, 5 nm, 3 nm), par type de composant (source lumineuse (sources EUV), miroirs et optiques, masques et systèmes de manipulation de masques, autres), par industrie d’utilisation finale (fabrication de semi-con
Published Date: January - 2025 | Publisher: MIR | No of Pages: 320 | Industry: ICT | Format: Report available in PDF / Excel Format
View Details Buy Now 2890 Download Sample Ask for Discount Request CustomizationMarché mondial de la lithographie dans l’ultraviolet extrême (EUV) – Taille de l’industrie mondiale, part, tendances, opportunités et prévisions segmentées par nœud technologique (7 nm et moins, 5 nm, 3 nm), par type de composant (source lumineuse (sources EUV), miroirs et optiques, masques et systèmes de manipulation de masques, autres), par industrie d’utilisation finale (fabrication de semi-con
| Période de prévision | 2024-2028 |
| Taille du marché (2022) | 8,32 milliards USD |
| TCAC (2023-2028) | 12,09 % |
| Segment à la croissance la plus rapide | Fabricants de dispositifs intégrés (IDM) |
| Marché le plus important | Asie-Pacifique |
Aperçu du marché
Le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) a franchi une étape importante à la fin de 2022, avec une valorisation de 8,32 milliards USD. Ce marché a connu une croissance remarquable, affichant un taux de croissance annuel composé (TCAC) de 12,09 %, une trajectoire qui devrait se poursuivre dans un avenir prévisible. Dans le paysage en constante évolution des avancées technologiques, le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) est devenu une force centrale, remodelant la façon dont les entreprises fonctionnent. Elle offre une gamme de solutions opérationnelles transparentes, d'outils renforcés et d'approches innovantes qui améliorent collectivement l'efficacité et la productivité dans divers secteurs.
L'une des caractéristiques marquantes de l'évolution de ce marché est la demande croissante de solutions rationalisées et interactives, qui est encore alimentée par l'intégration des technologies de lithographie EUV (Global Extreme Ultraviolet). Des innovations telles que les plateformes opérationnelles intégrées à l'IoT et les applications interactives ont élevé les capacités des jumeaux numériques, ajoutant de nouvelles couches de sophistication à leur utilité. Cette évolution vers des solutions optimisées par la technologie, associée à des améliorations opérationnelles, s'aligne parfaitement sur le concept de stratégies commerciales transformatrices. Les entreprises et les industries exploitent stratégiquement les technologies de lithographie EUV (Global Extreme Ultraviolet) pour améliorer les expériences opérationnelles, offrant à leurs équipes de nouvelles dimensions d'efficacité.
Cependant, il est crucial de relever les défis qui accompagnent ces avancées technologiques. La gestion de la conformité réglementaire et des considérations de sécurité est primordiale pour trouver le bon équilibre entre l'innovation et l'efficacité opérationnelle, en veillant à ce que la technologie des jumeaux numériques continue à offrir de la valeur tout en préservant l'intégrité et la confidentialité des données. Dans le paysage en constante évolution de la technologie industrielle, le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) sert de catalyseur constant, propulsant la modernisation des méthodologies opérationnelles. Son influence s'étend au-delà de la simple adoption technologique, favorisant une meilleure adaptabilité, des processus rationalisés et, en fin de compte, des résultats améliorés. À mesure que les industries continuent d'évoluer, ce marché remodèle constamment les paradigmes traditionnels, établissant une base solide pour des opérations interconnectées et innovantes.
En conclusion, la croissance et l'impact remarquables du marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) soulignent son rôle central dans la définition de l'avenir de diverses industries. Grâce à sa capacité à stimuler l'efficacité, la productivité et l'innovation, il est sur le point de rester une force motrice dans la transformation continue des opérations commerciales.
Principaux moteurs du marché
Les avancées de l'industrie des semi-conducteurs alimentent la croissance du marché de la lithographie EUV
Le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) connaît une croissance significative, principalement tirée par les avancées de l'industrie des semi-conducteurs. Les semi-conducteurs étant les éléments fondamentaux de la technologie moderne, leur complexité croissante et la demande de performances plus élevées ont nécessité l'adoption de processus de fabrication de pointe. La lithographie EUV est devenue une technologie révolutionnaire à cet égard.
La complexité des semi-conducteurs exige de la précision l'industrie des semi-conducteurs a été témoin d'une quête incessante de puces plus petites, plus puissantes et plus économes en énergie. La capacité de la lithographie EUV à produire des motifs complexes et précis à l'échelle nanométrique est essentielle pour répondre à ces exigences. Elle permet la création de transistors plus petits et de circuits denses, améliorant ainsi les performances des appareils électroniques.
Les appareils de nouvelle génération nécessitent l'EUV les technologies émergentes telles que la 5G, l'intelligence artificielle et les véhicules autonomes s'appuient sur des composants semi-conducteurs avancés. La lithographie EUV est devenue indispensable pour la fabrication de ces appareils de nouvelle génération, stimulant encore davantage sa croissance sur le marché.
Avantage concurrentiel et rentabilité les entreprises qui investissent dans la lithographie EUV obtiennent un avantage concurrentiel en produisant des puces aux performances supérieures et à la consommation d'énergie réduite. Bien que la technologie nécessite des investissements initiaux importants, elle conduit finalement à une efficacité des coûts grâce à des rendements de puces plus élevés et à une réduction des défauts de fabrication.
Demande croissante de centres de données et de calcul haute performance
La croissance exponentielle des technologies axées sur les données, du cloud computing et des centres de données est un moteur essentiel qui propulse le marché mondial de la lithographie EUV vers l'avant. Dans un monde de plus en plus connecté, le besoin de traitement et de stockage de vastes quantités de données a explosé, créant une augmentation de la demande de techniques avancées de fabrication de semi-conducteurs.
Expansion des centres de données les centres de données servent d'épine dorsale de l'ère numérique, hébergeant des serveurs et des infrastructures essentiels pour le cloud computing et les services en ligne. La lithographie EUV permet la production de processeurs hautes performances, facilitant l'expansion et l'efficacité des centres de données.
IA et analyse des mégadonnées les applications d'intelligence artificielle et d'analyse des mégadonnées exigent des processeurs puissants capables de gérer des calculs complexes en temps réel. La lithographie EUV est essentielle à la fabrication des puces hautes performances requises pour ces applications et la recherche scientifique les clusters de calcul hautes performances (HPC) utilisés dans la recherche scientifique, les simulations et la modélisation s'appuient sur une technologie de semi-conducteurs de pointe. La lithographie EUV prend en charge le développement de processeurs qui stimulent les avancées dans des domaines tels que la modélisation du climat, la découverte de médicaments et l'astrophysique.
Révolution de l'électronique mobile et grand public
La prolifération mondiale de l'électronique mobile et grand public a stimulé une croissance remarquable sur le marché de la lithographie EUV. Ces appareils, allant des smartphones aux technologies portables et aux gadgets pour la maison intelligente, nécessitent des puces plus petites, plus économes en énergie et plus performantes, ce qui entraîne le besoin de lithographie EUV.
Innovation pour smartphones les smartphones repoussent continuellement les limites de la technologie avec des fonctionnalités telles que des appareils photo avancés, la réalité augmentée et l'intelligence artificielle. La lithographie EUV permet la création de puces compactes, économes en énergie et puissantes qui alimentent ces innovations. IoT et objets connectés l'Internet des objets (IoT) et les appareils portables sont de plus en plus répandus dans la vie quotidienne. La lithographie EUV joue un rôle essentiel dans la fabrication des puces petites mais puissantes qui permettent la connectivité et la fonctionnalité de ces appareils. Évolution de l'électronique grand public des consoles de jeu aux téléviseurs intelligents, l'électronique grand public s'appuie sur la technologie des semi-conducteurs pour offrir des expériences de divertissement de pointe. La lithographie EUV facilite la production de puces hautes performances qui répondent aux exigences des consommateurs modernes.
Principaux défis du marché
Coût et complexité de la mise en œuvre de la technologie de lithographie EUV
La mise en œuvre de la technologie de lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) représente un défi de taille pour les entreprises, principalement en raison de son coût élevé et de sa complexité. Cette technologie de pointe nécessite des investissements importants en équipement, en infrastructure et en expertise, ce qui constitue un obstacle à l'adoption par le marché. Investissement à forte intensité de capital les machines de lithographie EUV et l'infrastructure associée comptent parmi les outils les plus coûteux de la fabrication de semi-conducteurs. Les dépenses d'investissement élevées nécessaires à l'achat et à la mise en place d'équipements EUV peuvent constituer un obstacle important pour les fabricants de semi-conducteurs, en particulier les plus petits acteurs du secteur.
Expertise opérationnelle l'exploitation et la maintenance des machines de lithographie EUV exigent une main-d'œuvre hautement qualifiée. Les entreprises doivent investir dans la formation et le développement pour garantir que leur personnel peut gérer et dépanner efficacement ces systèmes complexes. Ce défi s'étend au-delà de la mise en œuvre initiale, car une expertise opérationnelle continue est essentielle pour des performances constantes.
Perturbations de la chaîne d'approvisionnement la chaîne d'approvisionnement complexe des équipements de lithographie EUV, qui comprend des composants et des matériaux spécialisés, peut être vulnérable aux perturbations. Tout retard ou pénurie dans la chaîne d'approvisionnement peut avoir un impact sur les calendriers de fabrication et augmenter les coûts.
Conformité réglementaire et problèmes de sécurité des données
Alors que le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) continue de se développer, il est confronté à des problèmes de conformité réglementaire et de sécurité des données qui doivent être gérés avec diligence pour trouver le bon équilibre entre innovation et efficacité opérationnelle. Confidentialité et sécurité des données la lithographie EUV implique la manipulation de données de conception et de fabrication sensibles, ce qui rend essentielle la priorité à la confidentialité et à la sécurité des données. Garantir que la propriété intellectuelle et les informations sensibles restent protégées tout au long du processus de fabrication est un défi de taille, compte tenu du potentiel de cybermenaces et de violations de données.
Conformité réglementaire l'industrie des semi-conducteurs est soumise à des exigences réglementaires strictes, notamment des contrôles à l'exportation et des réglementations environnementales. Les entreprises opérant sur le marché de la lithographie EUV doivent naviguer dans un paysage complexe de réglementations pour garantir la conformité, ce qui peut ajouter de la complexité et des coûts à leurs opérations. Normes et collaboration mondiales la nature mondiale de l'industrie des semi-conducteurs nécessite le respect des normes internationales et la collaboration entre les parties prenantes. La coordination des efforts pour établir des normes et des pratiques communes pour la technologie de lithographie EUV dans différentes régions et organisations peut être difficile, mais elle est vitale pour la croissance et le succès de l'industrie.
En conclusion, le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) est confronté à des défis importants liés au coût élevé et à la complexité de la mise en œuvre de la technologie, ainsi qu'aux problèmes de conformité réglementaire et de sécurité des données. Français La réponse à ces défis est essentielle à la croissance et au succès continus de la technologie de lithographie EUV dans la fabrication de semi-conducteurs.
Principales tendances du marché
Adoption croissante de la lithographie EUV dans les nœuds avancés
Miniaturisation des semi-conducteurs l'une des principales tendances qui façonnent le marché mondial de la lithographie dans l'extrême ultraviolet (EUV) est l'adoption croissante de la technologie EUV dans les nœuds de semi-conducteurs avancés. Alors que la demande de puces plus petites, plus puissantes et plus économes en énergie continue d'augmenter, les fabricants de semi-conducteurs se tournent vers la lithographie EUV pour atteindre la précision requise pour les appareils de pointe. La lithographie EUV permet la production de nœuds inférieurs à 7 nm et au-delà , permettant la création de transistors plus petits et de circuits denses. Cette tendance est essentielle pour des secteurs tels que l'informatique mobile, la connectivité 5G et l'intelligence artificielle, où les performances et l'efficacité énergétique sont primordiales.
Élargissement des cas d'utilisation au-delà des applications traditionnelles des semi-conducteurs, la lithographie EUV trouve de nouveaux cas d'utilisation dans des domaines tels que les circuits intégrés photoniques, les technologies de mémoire avancées et les capteurs spécialisés. Cette expansion des applications élargit la portée du marché et augmente sa pertinence dans divers secteurs, des télécommunications aux soins de santé. Avantage concurrentiel les entreprises qui investissent dans la lithographie EUV obtiennent un avantage concurrentiel en produisant des puces avec des performances supérieures, une consommation d'énergie réduite et des rendements plus élevés. Cette tendance devrait se poursuivre alors que les fabricants de semi-conducteurs cherchent des moyens de différencier leurs produits sur un marché hautement concurrentiel.
Intégration de la lithographie EUV dans la fabrication intelligente et l'industrie 4.0
Révolution de la fabrication intelligente l'intégration de la lithographie EUV dans les processus de fabrication intelligents est une autre tendance importante qui remodèle l'industrie. Les initiatives de l'industrie 4.0 favorisent l'adoption de l'automatisation, de l'analyse de données et de l'intelligence artificielle dans la fabrication. La lithographie EUV s'intègre parfaitement dans ce paysage en offrant des processus de fabrication de semi-conducteurs précis et efficaces.
Contrôle de processus avancé les machines de lithographie EUV sont équipées de systèmes de contrôle de processus avancés qui permettent la surveillance et le réglage en temps réel des paramètres de fabrication. Cette capacité s'aligne sur les principes de la fabrication intelligente, où la prise de décision basée sur les données et la maintenance prédictive sont essentielles. En conséquence, la lithographie EUV contribue à des rendements de fabrication plus élevés et à une réduction des temps d'arrêt. Informations basées sur les données les données générées pendant les processus de lithographie EUV peuvent être exploitées pour l'optimisation des processus et la maintenance prédictive. Cette tendance devrait conduire au développement d'outils d'analyse avancés spécifiquement conçus pour la lithographie EUV, améliorant encore son efficacité et sa fiabilité.
Initiatives de durabilité améliorées dans la lithographie EUV
Réduction de l'empreinte environnementale la durabilité devient un point central sur le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV). Alors que les industries du monde entier accordent la priorité à la réduction de leur empreinte environnementale, les fabricants de semi-conducteurs recherchent des solutions de lithographie plus respectueuses de l'environnement. La lithographie EUV, par rapport aux techniques de lithographie optique traditionnelles, offre des avantages tels qu'une utilisation réduite de produits chimiques, une consommation d'énergie plus faible et des émissions de gaz à effet de serre plus faibles. Cette tendance s'aligne sur les objectifs de durabilité des entreprises et les pressions réglementaires visant à minimiser l'impact environnemental de la fabrication de semi-conducteurs. Innovations en matière de matériaux verts les chercheurs et les fabricants explorent des matériaux et des procédés verts pour la lithographie EUV afin de réduire davantage son impact environnemental. Cela comprend le développement de résines photosensibles plus durables et de matériaux alternatifs présentant une toxicité et une production de déchets plus faibles.
Durabilité de la chaîne d'approvisionnement les initiatives de durabilité s'étendent à l'ensemble de la chaîne d'approvisionnement des équipements et matériaux de lithographie EUV. Les entreprises collaborent avec les fournisseurs pour mettre en œuvre des pratiques respectueuses de l'environnement et réduire l'empreinte carbone de l'ensemble du processus de fabrication.
En conclusion, le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) est marqué par des tendances telles que l'adoption croissante de nœuds avancés, l'intégration dans la fabrication intelligente et des initiatives de durabilité améliorées. Ces tendances reflètent l'évolution continue de l'industrie qui cherche à répondre aux demandes de dispositifs semi-conducteurs plus petits et plus efficaces tout en répondant aux préoccupations environnementales et d'efficacité de fabrication.
Informations sur les segments
Informations sur les types de composants
En 2022, le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) était principalement dominé par le segment des « miroirs et optiques ». Cette domination devrait persister et même se renforcer tout au long de la période de prévision. Les miroirs et les optiques jouent un rôle essentiel dans la lithographie EUV, car ils sont responsables de la direction et de la focalisation de la lumière ultraviolette extrême sur la plaquette de semi-conducteur, permettant la structuration précise de caractéristiques complexes sur le substrat de silicium. La demande de miroirs et d'optiques avancés est motivée par le besoin toujours croissant de géométries de semi-conducteurs plus fines dans la fabrication de circuits intégrés de pointe. Alors que la technologie des semi-conducteurs continue de progresser et que les nœuds se rétrécissent pour répondre aux exigences d'appareils électroniques plus rapides et plus économes en énergie, l'importance des miroirs et des optiques de haute qualité dans les systèmes de lithographie EUV est primordiale. Les fabricants de l'industrie des semi-conducteurs investissent constamment dans la recherche et le développement pour améliorer les performances et la durabilité de ces composants essentiels. Par conséquent, le segment « Miroirs et optiques » devrait maintenir sa domination sur le marché de la lithographie EUV au cours de la période de prévision, reflétant l'engagement continu de l'industrie à repousser les limites de la technologie de fabrication des semi-conducteurs. Cette domination soutenue sera soutenue par le rôle central que jouent les miroirs et les optiques pour permettre aux fabricants de semi-conducteurs d'obtenir des tailles de caractéristiques plus petites et des niveaux d'intégration plus élevés dans leurs produits, stimulant l'innovation et la compétitivité sur le marché mondial de l'électronique.
Informations sur l'industrie d'utilisation finale
En 2022, le segment « Fabrication de semi-conducteurs » est devenu la force dominante sur le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV), et il est sur le point de maintenir sa domination tout au long de la période de prévision. Ce segment englobe l'application principale de la technologie de lithographie EUV, qui est la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'industrie des semi-conducteurs connaît une évolution rapide caractérisée par la réduction de la taille des transistors et l'augmentation de la complexité des puces, ce qui stimule la demande de solutions de lithographie EUV. Les fabricants de dispositifs intégrés (IDM), les fonderies et les fabricants de mémoires sont tous des acteurs clés de l'écosystème de fabrication de semi-conducteurs et ont été à l'avant-garde de l'adoption de la lithographie EUV pour répondre aux exigences de production de composants semi-conducteurs plus petits, plus puissants et économes en énergie. Ces utilisateurs finaux sont motivés par la nécessité de suivre le rythme de la loi de Moore et de rester compétitifs sur un marché axé sur la technologie. En outre, à mesure que les technologies émergentes telles que la 5G, l'intelligence artificielle et l'Internet des objets continuent de se développer, la demande de semi-conducteurs avancés devrait augmenter, renforçant encore la domination du segment de la « fabrication de semi-conducteurs » sur le marché de la lithographie EUV. Français La position de leader de ce segment est renforcée par l'investissement continu dans la recherche et le développement par les fabricants de semi-conducteurs et les fournisseurs d'équipements pour semi-conducteurs, visant à améliorer les capacités et la rentabilité des systèmes de lithographie EUV, garantissant ainsi leur pertinence à long terme dans la fabrication de semi-conducteurs. En conséquence, le segment « Fabrication de semi-conducteurs » devrait rester le moteur de la croissance du marché de la lithographie EUV, jouant un rôle central dans l'avancement de la technologie et permettant la production d'appareils électroniques de pointe.
Perspectives régionales
En 2022, la région Asie-Pacifique a dominé le marché mondial de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) et devrait poursuivre sa domination tout au long de la période de prévision. Cette domination régionale peut être attribuée à plusieurs facteurs clés. Tout d'abord, l'Asie-Pacifique abrite certains des plus grands fabricants de semi-conducteurs au monde, ce qui en fait une plaque tournante centrale pour la production de semi-conducteurs. Des pays comme Taïwan, la Corée du Sud, le Japon et la Chine abritent d'importantes installations de fabrication de semi-conducteurs, à la fois par des fabricants de dispositifs intégrés (IDM) et des fonderies. Ces entreprises ont adopté de manière agressive la technologie de lithographie EUV pour répondre à la demande croissante de composants semi-conducteurs avancés et plus petits.
Deuxièmement, la région Asie-Pacifique bénéficie d'un solide écosystème de fournisseurs d'équipements pour semi-conducteurs et de développeurs de technologies. Les entreprises de cette région participent activement à la recherche, au développement et à la production de systèmes de lithographie EUV et de composants associés, favorisant ainsi l'innovation et le progrès technologique.
En outre, le soutien et les investissements gouvernementaux dans l'industrie des semi-conducteurs dans des pays comme la Corée du Sud et Taiwan ont encore favorisé l'adoption de la technologie de lithographie EUV. Ces gouvernements reconnaissent l'importance stratégique de la fabrication de semi-conducteurs et souhaitent conserver un avantage concurrentiel sur le marché mondial.
En outre, le marché de l'électronique grand public en pleine expansion de la région Asie-Pacifique et la demande croissante de semi-conducteurs hautes performances pour des applications telles que les smartphones, les tablettes et les appareils IoT continuent de stimuler le besoin de solutions de lithographie avancées, y compris EUV. En conséquence, la région Asie-Pacifique devrait conserver sa position dominante sur le marché mondial de la lithographie EUV au cours de la période de prévision, grâce à la forte présence des géants de la fabrication de semi-conducteurs, à un écosystème technologique florissant, au soutien gouvernemental et à la demande croissante de produits semi-conducteurs de pointe dans la région.
Développements récents
- En août 2022, des acteurs de premier plan au sein du marché mondial de la lithographie EUV (Extreme Ultraviolet) ont démontré leur engagement indéfectible à faire progresser la technologie éducative. Un exemple notable est Google, qui a démontré son dévouement à travers des initiatives telles que Google Expeditions, une solution de pointe ancrée dans la réalité augmentée (AR) et la réalité virtuelle (VR). Google Expeditions a transformé le paysage éducatif en permettant aux étudiants de se lancer dans des voyages virtuels à l'aide de casques de réalité virtuelle, offrant ainsi des expériences d'apprentissage immersives englobant des monuments historiques, des concepts scientifiques et un large éventail de sujets dans un environnement virtuel.
- En février 2023, Microsoft a continué de faire des progrès substantiels dans le domaine de la technologie éducative, en mettant l'accent sur l'évolution des outils de réalité mixte. Parmi ses contributions, citons l'introduction du Microsoft HoloLens, un casque de réalité augmentée parfaitement adapté aux applications éducatives. Une avancée remarquable a émergé sous la forme de « Microsoft Mesh », une plate-forme de réalité mixte innovante spécialement conçue pour faciliter les expériences collaboratives sur différents appareils et emplacements. Cette plateforme avait le potentiel de révolutionner les environnements d'apprentissage virtuels, améliorant considérablement la qualité des interactions éducatives pour les étudiants.
- Ces développements se sont produits parallèlement à l'expansion du marché mondial de la lithographie à ultraviolet extrême (EUV), en particulier dans des pôles stratégiques comme Metropark. Dans ce contexte, des entités influentes ont souligné leur engagement à renforcer leur présence au sein de l'industrie. Cette expansion était étroitement liée à leur vision de diversification des services et d'adaptation proactive à la dynamique du marché, permettant à ces entités d'offrir une gamme complète de solutions à leurs précieux clients. L'intégration de technologies éducatives avancées par les principaux acteurs du marché reflète leur approche avant-gardiste et une reconnaissance du paysage technologique plus large dans lequel la lithographie EUV joue un rôle crucial.
Principaux acteurs du marché
- ASML Holding NV.
- CARL ZEISS AG.
- Toppan Photomasks Inc
- USHIO, INC
- NTT ADVANCED TECHNOLOGYCORPORATION.
- KLA CORPORATION
- ADVANTEST SOCIÉTÉ
- Photronics, Inc
- HOYA Corporation
- Trumpf
| Par nœud technologique | Par type de composant | Par secteur d'utilisation finale | Par région |
| 7 nm et inférieur 5 nm 3 nm | Source lumineuse (sources EUV) Miroirs et optiques Masques et systèmes de manipulation de masques Autres | Fabrication de semi-conducteurs Fabricants de dispositifs intégrés (IDM) Fonderies Fabricants de mémoire Autres | Amérique du Nord Europe Amérique du Sud Moyen-Orient et Afrique Asie-Pacifique |
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