Mercado de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor: tamaño de la industria global, participación, tendencias, oportunidades y pronóstico segmentado por tipo (síntesis química, síntesis electrolítica), por aplicación (semiconductores, pantallas planas y células solares), por región, competencia, 2019-2029F

Descripción general del mercado

El mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor se valoró en USD 1.46 mil millones en 2023 y se prevé que proyecte un crecimiento sólido en el período de pronóstico con una CAGR del 5,34% hasta 2029

El gas flúor, por otro lado, es una materia prima clave para producir fluoropolímeros, que se utilizan ampliamente en la fabricación de plásticos de alto rendimiento, recubrimientos y gases fluorados. Las industrias automotriz, aeroespacial y de la construcción son los principales consumidores de fluoropolímeros, lo que impulsa la demanda de gas flúor. Además, el gas flúor se utiliza en la producción de refrigerantes, productos farmacéuticos y productos químicos especiales, lo que contribuye aún más a su crecimiento en el mercado.

Principales impulsores del mercado

Se espera que la creciente demanda de paneles solares impulse la demanda del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor

Se prevé que la creciente demanda de paneles solares sea una fuerza impulsora importante detrás del crecimiento del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno (NF3) y gas flúor. A medida que el mundo hace la transición hacia fuentes de energía renovables para mitigar el cambio climático y reducir la dependencia de los combustibles fósiles, la energía solar ha surgido como una solución prometedora, experimentando un crecimiento exponencial en los últimos años. Los paneles solares fotovoltaicos (PV), que convierten la luz solar en electricidad, dependen de una variedad de materiales y productos químicos especializados para su producción, incluidos el NF3 y el gas flúor. Estos gases desempeñan papeles cruciales en los procesos de fabricación de paneles solares, específicamente en la limpieza y grabado de materiales semiconductores como el silicio, así como en la deposición de capas de película delgada para mejorar la eficiencia y el rendimiento.

Se espera que la creciente demanda de paneles solares, impulsada por la disminución de los costos, los incentivos gubernamentales y las preocupaciones ambientales, impulse el crecimiento del mercado global de NF3 y gas flúor. El NF3 se usa ampliamente como agente de limpieza en la producción de obleas de silicio, el componente principal de las células solares. El NF3 ofrece varias ventajas sobre los métodos de limpieza tradicionales, incluida una mayor eficiencia de limpieza, un menor impacto ambiental y una menor generación de desechos. A medida que la industria solar continúa expandiéndose y aumentan las capacidades de producción, se proyecta que la demanda de NF3 para aplicaciones de limpieza de obleas aumentará significativamente, impulsando el crecimiento en el mercado de NF3.

Además, el gas flúor es un precursor crítico en la deposición de capas de película delgada en células solares, como silicio amorfo, telururo de cadmio y seleniuro de cobre, indio y galio (CIGS). Estas tecnologías de película delgada ofrecen ventajas sobre las células solares de silicio cristalino tradicionales, incluyendo flexibilidad, peso ligero y mayor eficiencia en condiciones de poca luz. El gas flúor se utiliza en procesos de deposición química en fase de vapor (CVD) para depositar capas delgadas de materiales semiconductores sobre sustratos, lo que permite la producción de paneles solares de película delgada de alto rendimiento. A medida que la adopción de tecnologías solares de película delgada sigue creciendo, impulsada por su rentabilidad y versatilidad, se espera que la demanda de gas flúor para aplicaciones de CVD aumente, impulsando aún más el crecimiento del mercado.

Además, se espera que el impulso global hacia soluciones energéticas sostenibles y el énfasis creciente en las regulaciones ambientales impulsen la inversión en infraestructura de energía solar, estimulando la demanda de NF3 y gas flúor. Los gobiernos de todo el mundo están implementando políticas para promover la adopción de energía renovable, incluyendo tarifas de alimentación, incentivos fiscales y objetivos de energía renovable, que están impulsando inversiones significativas en proyectos de energía solar. A medida que las instalaciones solares proliferan en los sectores residencial, comercial y de servicios públicos, la demanda de NF3 y gas flúor para la fabricación de paneles solares está destinada a aumentar, lo que presenta oportunidades lucrativas para los actores del mercado.

En resumen, se espera que la creciente demanda de paneles solares, impulsada por la transición hacia la energía renovable y el creciente énfasis en la sostenibilidad, impulse un crecimiento significativo en el mercado mundial de NF3 y gas flúor. A medida que la industria solar continúa expandiéndose e innovando, se proyecta que aumentará la demanda de estos gases en los procesos de fabricación de paneles solares, incluida la limpieza de obleas y la deposición de películas delgadas. Los actores del mercado están preparados para capitalizar esta creciente demanda invirtiendo en investigación y desarrollo, expandiendo las capacidades de producción y forjando alianzas estratégicas para satisfacer las necesidades cambiantes de la industria de la energía solar.

Se espera que el aumento de la generación de energía nuclear impulse la demanda de crecimiento del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor

Se anticipa que el creciente sector de generación de energía nuclear servirá como un catalizador significativo que impulse el crecimiento del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno (NF3) y gas flúor. A medida que los países de todo el mundo buscan la transición hacia fuentes de energía bajas en carbono para satisfacer la creciente demanda de electricidad y al mismo tiempo reducir las emisiones de gases de efecto invernadero, la energía nuclear ha surgido como una solución prometedora debido a su confiabilidad, escalabilidad y huella de carbono relativamente baja. Las centrales nucleares utilizan una variedad de materiales y productos químicos especializados en sus operaciones, incluidos el NF3 y el gas flúor, que desempeñan papeles cruciales en varias etapas del ciclo del combustible nuclear, desde el enriquecimiento del uranio hasta la fabricación del combustible para reactores. Se espera que la creciente demanda de generación de energía nuclear, impulsada por factores como la seguridad energética, los objetivos de descarbonización y la necesidad de suministro de electricidad de carga base, impulse un crecimiento significativo en el mercado mundial del NF3 y el gas flúor. El NF3, en particular, se utiliza en el proceso de enriquecimiento del uranio, donde sirve como agente fluorante para convertir el gas hexafluoruro de uranio (UF6) en una forma adecuada para la separación isotópica. El enriquecimiento de uranio es un paso crítico en la producción de combustible nuclear tanto para reactores de agua ligera (LWR) como para diseños de reactores avanzados, y el NF3 desempeña un papel clave en la mejora de la eficiencia y la precisión en el proceso de enriquecimiento. A medida que la industria nuclear mundial se expande y entran en funcionamiento nuevos proyectos de reactores, se prevé que aumente la demanda de NF3 para aplicaciones de enriquecimiento de uranio, lo que impulsará el crecimiento del mercado de NF3.

Además, el gas flúor es esencial en la fabricación de elementos combustibles para reactores, específicamente en la producción de tetrafluoruro de uranio (UF4) y hexafluoruro de uranio (UF6), que son intermediarios clave en el proceso de fabricación de combustible nuclear. El UF4 y el UF6 se utilizan como precursores para producir dióxido de uranio (UO2) y hexafluoruro de uranio (UF6), que sirven como materiales combustibles tanto para reactores de agua ligera convencionales como para diseños de reactores de próxima generación, como reactores refrigerados por gas de alta temperatura (HTGR) y reactores de sales fundidas (MSR). El gas flúor facilita la fluoración de compuestos de uranio, lo que permite la conversión de óxido de uranio en UF6 gaseoso para la separación y el enriquecimiento isotópicos. A medida que el parque nuclear mundial se expande y la demanda de combustible para reactores crece, se espera que aumente la demanda de gas flúor para aplicaciones de fabricación de combustible, lo que impulsará aún más el crecimiento del mercado.

Además, se espera que el enfoque creciente en la energía nuclear como una fuente confiable y resistente de electricidad, particularmente en el contexto de la seguridad energética y la mitigación del cambio climático, impulse la inversión en infraestructura de energía nuclear en todo el mundo. Los gobiernos y las empresas de servicios públicos están explorando nuevas tecnologías de reactores, como reactores modulares pequeños (SMR) y reactores avanzados, para abordar las necesidades energéticas al tiempo que minimizan el impacto ambiental y mejoran la seguridad. Estos diseños de reactores avanzados a menudo requieren materiales y productos químicos especializados, incluido NF3 y gas flúor, para el procesamiento, enriquecimiento y fabricación de combustible, lo que crea oportunidades adicionales para el crecimiento del mercado.

Para concluir, el creciente sector de generación de energía nuclear está preparado para impulsar un crecimiento significativo en el mercado global de NF3 y gas flúor, impulsado por la creciente demanda de combustible nuclear y materiales para reactores. Mientras el mundo se esfuerza por alcanzar los objetivos de seguridad energética, descarbonización y sostenibilidad, la industria nuclear seguirá desempeñando un papel vital en el panorama energético mundial, impulsando la demanda de productos químicos y materiales esenciales para apoyar su crecimiento y desarrollo.

La creciente industria de la electrónica impulsa el crecimiento del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor

La floreciente industria de la electrónica está surgiendo como un importante impulsor de la trayectoria de crecimiento del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno (NF3) y gas flúor. Con los rápidos avances tecnológicos, la creciente demanda de dispositivos electrónicos por parte de los consumidores y la proliferación de tecnologías digitales en varios sectores, la demanda de materiales y productos químicos especializados utilizados en los procesos de fabricación de semiconductores ha experimentado un repunte significativo. El NF3 y el gas flúor desempeñan papeles indispensables en la producción de componentes electrónicos, en particular en la fabricación de semiconductores, el grabado de plasma y las aplicaciones de limpieza, lo que impulsa su prominencia en la cadena de suministro de fabricación de productos electrónicos.

Se espera que el crecimiento incesante de la industria electrónica, impulsado por factores como la proliferación de teléfonos inteligentes, tabletas, computadoras portátiles y otros dispositivos electrónicos portátiles, impulse un crecimiento sustancial en el mercado mundial del NF3 y el gas flúor. El NF3, en particular, se utiliza ampliamente en los procesos de grabado de plasma en la fabricación de semiconductores, donde sirve como agente fluorante para eliminar selectivamente capas de materiales depositados en obleas de silicio durante la fabricación del dispositivo. El grabado de plasma es un paso crítico en la producción de circuitos integrados (CI) y componentes microelectrónicos, que permite la creación de patrones y la estructuración precisos de materiales semiconductores para crear características intrincadas en los dispositivos. A medida que los fabricantes de semiconductores se esfuerzan por satisfacer la creciente demanda de dispositivos electrónicos avanzados con mayor rendimiento y formatos más pequeños, se prevé que aumente la demanda de NF3 para aplicaciones de grabado de plasma, lo que impulsará el crecimiento del mercado de NF3.

Además, el gas flúor es esencial en los procesos de deposición química en fase de vapor (CVD) utilizados para depositar películas delgadas de materiales dieléctricos y semiconductores sobre obleas de silicio, lo que permite la producción de dispositivos semiconductores de alto rendimiento. Los precursores basados en flúor, como el tetrafluoruro de silicio (SiF4) y el hexafluoruro de tungsteno (WF6), se utilizan ampliamente en los procesos de CVD para depositar dióxido de silicio (SiO2), nitruro de silicio (Si3N4) y otros materiales de película delgada con un control preciso del espesor y la composición. Estas películas delgadas sirven como capas aislantes, revestimientos de pasivación y barreras de difusión en dispositivos semiconductores, lo que mejora el rendimiento y la fiabilidad. A medida que la demanda de dispositivos semiconductores avanzados con funcionalidad mejorada, mayor integración y eficiencia energética mejorada continúa creciendo, se espera que aumente la demanda de gas flúor para aplicaciones de CVD, lo que impulsará aún más el crecimiento del mercado.

Además, la creciente adopción de tecnologías emergentes como la inteligencia artificial (IA), Internet de las cosas (IoT), comunicaciones inalámbricas 5G y vehículos eléctricos (VE) está impulsando la demanda de dispositivos semiconductores avanzados con mayor potencia de procesamiento, velocidades de transferencia de datos más rápidas y eficiencia energética mejorada. Estas tecnologías requieren procesos y materiales de fabricación de semiconductores de vanguardia, incluidos NF3 y gas flúor, para cumplir con los requisitos de rendimiento y permitir la innovación. A medida que las industrias de todos los sectores invierten en transformación digital y soluciones impulsadas por la tecnología para mejorar la productividad, la eficiencia y la conectividad, la demanda de NF3 y gas flúor para aplicaciones de fabricación de semiconductores está lista para aumentar, creando oportunidades para la expansión del mercado.

Por último, se espera que la creciente industria electrónica, impulsada por la innovación tecnológica, la demanda de los consumidores y la digitalización industrial, impulse un crecimiento significativo en el mercado global de NF3 y gas flúor. A medida que los fabricantes de semiconductores se esfuerzan por satisfacer las necesidades cambiantes del mercado de la electrónica y ofrecer dispositivos de próxima generación con un rendimiento y una funcionalidad mejorados, se prevé que aumente la demanda de NF3 y gas flúor para la fabricación de semiconductores, el grabado de plasma y las aplicaciones de deposición de películas delgadas. Los actores del mercado están preparados para capitalizar esta creciente demanda invirtiendo en investigación y desarrollo, ampliando las capacidades de producción y forjando asociaciones estratégicas para satisfacer las necesidades cambiantes de la cadena de suministro de fabricación de productos electrónicos.

Principales desafíos del mercado

Alto costo de producción del trifluoruro de nitrógeno y el gas flúor

El alto costo de producción del trifluoruro de nitrógeno (NF3) y el gas flúor presenta un obstáculo significativo para el crecimiento del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor. El NF3 y el gas flúor son componentes esenciales en varias industrias, incluidas la electrónica, la farmacéutica y la fabricación de productos químicos. Sin embargo, los procesos de producción complejos y de alto consumo de energía involucrados en la síntesis de estos gases contribuyen a sus elevados costos de producción. Además, las estrictas normas de seguridad y medioambientales añaden gastos adicionales para garantizar el cumplimiento de las normas de la industria. Como resultado, los usuarios finales pueden buscar soluciones alternativas o limitar su uso de NF3 y gas flúor, lo que dificulta la expansión del mercado. Para abordar este desafío y estimular el crecimiento del mercado, los fabricantes deben explorar métodos de producción innovadores, como el desarrollo de técnicas de síntesis más eficientes o el aprovechamiento de fuentes de energía renovables para reducir los costes operativos. Además, fomentar la colaboración con instituciones de investigación y agencias gubernamentales podría facilitar el desarrollo de tecnologías de producción rentables al tiempo que se garantiza la sostenibilidad medioambiental y el cumplimiento normativo.

Preocupaciones medioambientales

Las preocupaciones medioambientales en torno a la producción y el uso de trifluoruro de nitrógeno (NF3) y gas flúor son obstáculos importantes para el crecimiento del mercado mundial de estos gases. El NF3 ha llamado la atención debido a sus potentes propiedades de gas de efecto invernadero y su larga vida atmosférica, lo que contribuye al potencial de calentamiento global. Además, el gas flúor, conocido por su naturaleza corrosiva y tóxica, plantea preocupaciones sobre su manipulación, almacenamiento y eliminación seguros a lo largo de su ciclo de vida. Los organismos reguladores de todo el mundo imponen cada vez más normas estrictas destinadas a reducir las emisiones y minimizar los impactos ambientales asociados a estos gases. Como resultado, las industrias que dependen del NF3 y del gas flúor se enfrentan a presiones para adoptar alternativas más limpias o implementar estrategias de reducción de emisiones, lo que podría reducir la demanda de estos productos. Para superar estos obstáculos y fomentar el crecimiento del mercado, los fabricantes deben priorizar las iniciativas de sostenibilidad, invertir en investigación y desarrollo de métodos de producción respetuosos con el medio ambiente y colaborar con las partes interesadas para desarrollar e implementar prácticas responsables con el medio ambiente en toda la cadena de suministro.

Tendencias clave del mercado

Desarrollo de procesos de producción más eficientes y sostenibles

El desarrollo de procesos de producción más eficientes y sostenibles se erige como una tendencia fundamental que impulsa la trayectoria de crecimiento del mercado mundial de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor. Con el aumento de las aplicaciones industriales que abarcan la fabricación de productos electrónicos, la síntesis química y la producción farmacéutica, la demanda de trifluoruro de nitrógeno (NF3) y gas flúor sigue aumentando. Sin embargo, los métodos de producción convencionales a menudo implican procesos de alto consumo energético y productos químicos peligrosos, lo que genera preocupaciones ambientales y presiones regulatorias. En respuesta, los fabricantes están intensificando sus esfuerzos para innovar y optimizar los procesos de producción con el fin de mejorar la eficiencia y la sostenibilidad. Las iniciativas clave en este ámbito incluyen la adopción de tecnologías avanzadas como la fluoración electroquímica, la fluoración basada en plasma y los sistemas de recuperación de flúor, que permiten una producción más racionalizada y respetuosa con el medio ambiente de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor. Estos procesos innovadores no solo minimizan el consumo de energía y la generación de residuos, sino que también facilitan el reciclaje y la reutilización de las materias primas, lo que reduce el impacto ambiental general. Además, la integración de fuentes de energía renovables como la energía solar y eólica en las instalaciones de producción está ganando terreno, lo que mejora aún más el perfil de sostenibilidad de la fabricación de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor.

Además, los avances en catálisis e ingeniería de procesos están permitiendo el desarrollo de nuevas rutas de síntesis que ofrecen mayores rendimientos, menores emisiones y menores costos de producción. Este enfoque concertado para mejorar la eficiencia y la sostenibilidad de la producción no solo está impulsado por consideraciones ambientales, sino también por la creciente demanda de los usuarios finales que buscan cadenas de suministro y productos ambientalmente responsables. Como resultado, el desarrollo de procesos de producción más eficientes y sostenibles está destinado a seguir siendo una tendencia clave que moldea el crecimiento del mercado global de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor, presentando oportunidades lucrativas para que los actores de la industria aprovechen la dinámica cambiante del mercado y satisfagan la creciente demanda de estos gases industriales críticos en diversos sectores.

Crecimiento

La creciente exploración de nuevas aplicaciones en áreas como la imagenología médica, los productos farmacéuticos y la industria aeroespacial surge como una tendencia clave que impulsa la trayectoria de crecimiento del mercado global de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor. Estas industrias especializadas dependen cada vez más de las propiedades únicas del trifluoruro de nitrógeno (NF3) y el gas flúor para facilitar innovaciones y avances revolucionarios en sus respectivos campos. En la imagenología médica, los agentes de contraste basados en flúor están ganando prominencia debido a sus capacidades de imagenología superiores, lo que permite un diagnóstico más preciso y un seguimiento del tratamiento en procedimientos como la resonancia magnética (MRI) y la tomografía por emisión de positrones (PET). Además, el sector farmacéutico está aprovechando la química del flúor para desarrollar fármacos fluorados con mayor eficacia, estabilidad metabólica y toxicidad reducida, ampliando así el arsenal terapéutico para diversas enfermedades que van desde el cáncer hasta los trastornos infecciosos.

Además, la industria aeroespacial está aprovechando las propiedades excepcionales de los materiales basados en flúor para mejorar el rendimiento, la durabilidad y la seguridad de los componentes de las aeronaves, incluidos los compuestos ligeros, los revestimientos resistentes al calor y los sistemas de propulsión. La creciente adopción de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor en estos sectores de alto crecimiento subraya su papel indispensable como facilitadores del avance tecnológico y la innovación. Además, la creciente demanda de aplicaciones especializadas requiere un aumento correspondiente en la producción y el suministro de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor, lo que impulsa el crecimiento del mercado. A medida que las industrias continúan ampliando los límites de la innovación y expandiéndose hacia nuevas fronteras, las aplicaciones versátiles del trifluoruro de nitrógeno y el gas flúor están preparadas para desempeñar un papel fundamental en la configuración del futuro panorama de las tecnologías médicas, farmacéuticas y aeroespaciales. En consecuencia, los fabricantes y proveedores de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor se enfrentan a importantes oportunidades para capitalizar estas tendencias emergentes y satisfacer las necesidades cambiantes de diversos usuarios finales, impulsando así el crecimiento sostenido del mercado global de estos gases industriales críticos.

Información segmentaria

Información sobre el tipo

Según el tipo, el tipo de síntesis química ha surgido como el segmento dominante en el mercado global de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor. El trifluoruro de nitrógeno y el gas flúor son componentes esenciales en diversas aplicaciones industriales, incluida la fabricación de semiconductores, productos farmacéuticos y la producción de productos químicos especiales. Los métodos de síntesis química ofrecen ventajas en términos de escalabilidad, eficiencia y pureza, lo que los convierte en las rutas preferidas para producir trifluoruro de nitrógeno y gas flúor a escala comercial. Estos procesos suelen implicar la reacción de sustancias químicas precursoras en condiciones controladas para producir productos de alta pureza adecuados para diversas aplicaciones.

El predominio de los métodos de síntesis química en el mercado global de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor refleja la dependencia de la industria de técnicas de producción fiables y rentables para satisfacer la creciente demanda. Además, los avances en las tecnologías de síntesis química siguen impulsando la innovación, lo que permite a los fabricantes mejorar la calidad del producto, aumentar la eficiencia de la producción y optimizar la utilización de los recursos.

Información sobre la aplicación

Basado en la aplicación

El rápido crecimiento de la industria de los semiconductores, impulsado por los avances en la tecnología y la creciente demanda de dispositivos electrónicos, ha contribuido significativamente al predominio del segmento de semiconductores en el mercado de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor. A medida que los fabricantes de semiconductores se esfuerzan por satisfacer la creciente demanda de dispositivos más pequeños, rápidos y potentes, la necesidad de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor de alta pureza sigue siendo primordial.

Los estrictos estándares de calidad y seguridad en la fabricación de semiconductores requieren fuentes confiables y consistentes de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor, lo que consolida aún más el dominio del segmento de semiconductores en el mercado. Los fabricantes dentro de este segmento priorizan las asociaciones con proveedores que pueden garantizar la calidad del producto, la consistencia y la confiabilidad de la cadena de suministro.

A medida que la industria de semiconductores continúa innovando y expandiéndose a nuevos mercados como la inteligencia artificial, la electrónica automotriz y la tecnología 5G, se espera que la demanda de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor aumente aún más. En consecuencia, es probable que persista el predominio del segmento de semiconductores en el mercado global de estos productos químicos, impulsado por los avances tecnológicos en curso y la búsqueda incesante de un mayor rendimiento y eficiencia en los procesos de fabricación de semiconductores.

Perspectivas regionales

Según la región,

La región de Asia Pacífico se beneficia de un ecosistema sólido que respalda la innovación tecnológica y las capacidades de fabricación, lo que la convierte en un destino atractivo para la inversión y las instalaciones de producción de los principales actores de la industria del trifluoruro de nitrógeno y el gas flúor. Además, la presencia de un mercado de consumo grande y en crecimiento para dispositivos electrónicos y semiconductores alimenta aún más la demanda de estos productos químicos, lo que impulsa el crecimiento del mercado en la región.

Las políticas e iniciativas gubernamentales favorables destinadas a promover el crecimiento industrial, la innovación y el desarrollo tecnológico también han desempeñado un papel importante en el impulso del mercado del trifluoruro de nitrógeno y el gas flúor en la región de Asia Pacífico. Los gobiernos de toda la región han apoyado activamente a las industrias de semiconductores y electrónica a través de incentivos, desarrollo de infraestructura y financiación de la investigación, fomentando un entorno propicio para la expansión del mercado.

La región de Asia Pacífico alberga a algunos de los principales productores y exportadores de productos electrónicos y semiconductores del mundo, lo que crea una sólida base de demanda de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor dentro de la región. Como resultado, las corporaciones multinacionales y los fabricantes de productos químicos están centrando cada vez más su atención en expandir su presencia y operaciones en el mercado de Asia Pacífico para capitalizar su potencial de crecimiento.

El surgimiento de la región de Asia Pacífico como un punto de acceso para el crecimiento del mercado de trifluoruro de nitrógeno y gas flúor subraya su creciente importancia en el panorama de la industria química mundial. Gracias a las inversiones continuas, los avances tecnológicos y las condiciones favorables del mercado, la región está preparada para mantener su impulso y desempeñar un papel fundamental en el impulso del crecimiento futuro del mercado del gas flúor y trifluoruro de nitrógeno.

Acontecimientos recientes

• En marzo de 2022, Sensorix anunció la ampliación de su cartera de sensores para incluir hidruros y cloruro de hidrógeno, componentes clave en la fabricación de semiconductores. La industria de los semiconductores se encuentra entre los sectores de mayor riesgo debido al uso de gases peligrosos. El almacenamiento, la distribución y la utilización de estos gases en los procesos de producción no solo ponen en peligro la salud y la seguridad de los empleados, sino que también plantean amenazas importantes para la continuidad del negocio. Por lo tanto, es esencial un control eficaz de estos gases en procesos industriales, como la producción de materiales semiconductores.

Actores clave del mercado

• MitsuiChemicals Inc
• American Gas Group
• Kanto Denka KogyoCo. Ltd
• SK Materials Co Ltd
• Formosa Plastics Corporation
• Foosung Co.Ltd
• Linde plc
• Central Glass Co.Ltd
• Navin Fluorine International Limited
• OCI COMPANY Ltd.