Marktgröße für Wafer-Reinigungsgeräte nach Wafergröße (≤ 150 mm, 200 mm, 300 mm), nach Technologie (Nasschemisches Reinigungsverfahren, Dampf-Trockenreinigungsverfahren, Wässriges Reinigungsverfahren, Reinigungsverfahren mit überkritischen Flüssigkeiten und kryogenen Aerosolen), nach Gerät (Wäscher, Sprühsystem für Einzelwafer, kryogene Systeme für Einzelwafer, Batch-Tauchreinigung, Batch-Sprührei
Published Date: October - 2024 | Publisher: MIR | No of Pages: 240 | Industry: latest trending Report | Format: Report available in PDF / Excel Format
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