Marktgröße für Wafer-Reinigungsgeräte nach Wafergröße (≤ 150 mm, 200 mm, 300 mm), nach Technologie (Nasschemisches Reinigungsverfahren, Dampf-Trockenreinigungsverfahren, Wässriges Reinigungsverfahren, Reinigungsverfahren mit überkritischen Flüssigkeiten und kryogenen Aerosolen), nach Gerät (Wäscher, Sprühsystem für Einzelwafer, kryogene Systeme für Einzelwafer, Batch-Tauchreinigung, Batch-Sprührei

Marktgröße und Prognose für Waferreinigungsgeräte

Der Markt für Waferreinigungsgeräte wurde im Jahr 2024 auf 7,11 Milliarden USD geschätzt und soll bis 2030 einen Wert von 13,65 Milliarden USD erreichen und zwischen 2024 und 2031 mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate von 8,5 % wachsen.

• Wafer sind im Grunde dünne Platten, die aus außergewöhnlich reinem und fehlerfreiem Halbleitermaterial wie Silizium hergestellt werden. Die Wafer müssen strenge chemische Prozesse durchlaufen, bevor sie auf den Geräten verarbeitet werden. Daher steigt der Bedarf an Reinigungsgeräten, um die an der Oberfläche haftenden Staubpartikel zu entfernen und sie für die Anwendung in Halbleitergeräten nutzbar zu machen.
• Wafer-Reinigungsgeräte sind eine spezielle Technologie, die für die Anwendung im Halbleiterherstellungsprozess entwickelt wurde. Sie helfen, Verunreinigungen wie Staub, Partikel, organische Rückstände und Metallionen von Silizium-Wafern zu entfernen.
• In der Halbleiterindustrie ist die Wafer-Reinigung ein kritischer Schritt, da sie sicherstellt, dass die Oberfläche des Wafers frei von Verunreinigungen ist. Denn die Verunreinigungen könnten die elektrischen Eigenschaften der auf dem Wafer eingebauten Geräte beeinträchtigen, was zu enormen Ertragsverlusten und Geräteausfällen führen könnte.
• Daher sind Wafer-Reinigungsgeräte ein wesentlicher Teil des Halbleiterherstellungsprozesses, um eine verbesserte Ausbeute und Qualität von Halbleitergeräten sicherzustellen.
• Wafer werden häufig in Flachbildschirmen, MEMS, Verbindungshalbleitergeräten, Leiterplatten (PCBs) und anderen verwendet. Diese steigende Nachfrage nach Wafern wird voraussichtlich den Einsatz von Wafer-Reinigungsgeräten vorantreiben, um effiziente Wafer-Reinigungs- und Herstellungsprozesse zu ermöglichen.
• So erklärte die Infineon Technologies AG im August 2023, dass sie entschlossen sei, ihre Produktionseinheit in Malaysia zu erweitern, um den Ertrag der 200-mm-SiC-Fabrik zu steigern. Solche Entwicklungen in den Organisationen veranschaulichen die wachsende Anwendung von Wafern auf der ganzen Welt.

Dynamik des globalen Marktes für Waferreinigungsgeräte

Die wichtigsten Marktdynamiken, die den globalen Markt für Waferreinigungsgeräte prägen, umfassen

Wichtige Markttreiber

• Durchdringung fortschrittlicher Technologien in Unternehmen aller Größen Das wachsende Bewusstsein für fortschrittliche Technologien, einschließlich des 5G-Netzwerks, des Internets der Dinge (IoT) und der künstlichen Intelligenz (KI), erhöht die Verwendung von Smartphones, Wearables, KI-Chips, GPUs, Smart Homes, integrierten Schaltkreisen (ICs), und andere Geräte. Dies wird wahrscheinlich den Bedarf an Halbleitern ankurbeln, was wiederum den Verkauf von Waferreinigungsgeräten weiter ankurbeln wird.
• Steigende Nachfrage nach winzigen Halbleiterbauelementen Die zunehmende Anwendung des Mooreschen Gesetzes ermutigt Hersteller, die Größe von Halbleiterbauelementen angeblich zu reduzieren und gleichzeitig die Komplexität zu erhöhen. Die Größenunterschiede werden voraussichtlich die Nachfrage nach gründlicher und präziser Wafer-Reinigungsausrüstung ankurbeln.
• Zunehmende Anwendung von Wafern in kommenden Technologien Die zunehmende Anwendung von 3D-NAND-Flash, High-Aspect-Ratio-(HAR)-Ätzen und Extrem-Ultraviolett-(EUV)-Lithografie in verschiedenen Branchen erfordert die Verwendung von reinen und staubfreien Wafern, wodurch .
• Strenge staatliche Regeln und VorschriftenDie steigende Nachfrage nach umweltfreundlichen Technologien in der Elektronikindustrie zur Verringerung von Treibhausgasemissionen und Abfallerzeugung wird voraussichtlich neue Erfolgspfade für den Markt für Wafer-Reinigungsausrüstung schaffen.
• Zunehmende Einführung von Automatisierung in der Automobilindustrie Steigende Unfallzahlen treiben die Nachfrage nach fortschrittlichen Fahrerassistenzsystemen (ADAS) und autonomen Fahrzeugen voran. Solche Innovationen in der Automobilindustrie treiben den Bedarf an Halbleitern an und treiben damit die Nachfrage nach Waferreinigungsgeräten voran, die mit automatisierten Systemen kompatibel sind.
• Wachsende Popularität von KI-basierten Chatbots Wachsendes Wissen über KI-basierte Chatbots wie ChatGPT treibt den Bedarf an großvolumigen Speicher- und Speichergeräten an und schafft breitere Wachstumsaussichten für die Halbleiterindustrie. Es ist die Nachfrage nach generativen KI-Lösungen, die den Verkauf von Waferreinigungsgeräten ankurbeln wird.

Wichtigste Herausforderungen

• Hohe GerätekostenDie Herstellungskosten der Waferreinigungsgeräte stellen eine große Herausforderung für ihre Einführung durch Unternehmen mit kleinem Budget dar und behindern den Verkauf von Waferreinigungsgeräten. Außerdem könnten die Fortschritte bei den Reinigungsgeräten möglicherweise die Expansion des Marktes behindern.
• Herausforderungen hinsichtlich Miniaturisierung und KomplexitätDie steigende Nachfrage nach winzigen Geräten wird zweifellos die Komplexität der in den Wafern integrierten Halbleiter, Schaltkreise oder Chips erhöhen. Dies wird wahrscheinlich die Nachfrage nach höheren Sauberkeitsstandards für längere Haltbarkeit und Wartung ankurbeln. Dadurch wird die Umsetzung in kleineren Unternehmen eingeschränkt.
• Auswirkungen innovativer Reinigungsprozesse auf die Umwelt Die Entstehung giftiger Emissionen und Abfälle während der Waferreinigungsprozesse stellt für die Halbleiterhersteller eine große Herausforderung dar. Daher sind die strengen Umweltschutzbestimmungen, die von den Regierungen weltweit in Kraft gesetzt wurden, für die Halbleiterindustrie besorgniserregend. All diese Aspekte werden voraussichtlich die Verkäufe von Waferreinigungsgeräten einbrechen lassen.
• Mangel an qualifizierten Fachkräften Der Mangel an Fachwissen für die Handhabung und Wartung von Waferreinigungsgeräten wird voraussichtlich deren Lebensdauer und Betriebseffizienz verringern. Dies kann sich als ein großes erweisen.
• Globale wirtschaftliche und geopolitische ProblemeDie wirtschaftlichen Unsicherheiten, die aufgrund des Handelskriegs oder anderer geopolitischer Probleme zwischen Ländern wie China und den USA sowie Russland und der Ukraine entstehen, sind allesamt für die Unterbrechung der Lieferkette für Halbleiterbauelemente verantwortlich, was sich auf den Markt für Wafer-Reinigungsgeräte auswirken könnte.

Wichtige Trends

• Wachsender Markt für hochpräzise Reinigungsgeräte Die Komplexität integrierter Schaltkreise erfordert hochpräzise Reinigungsgeräte, um selbst die kleinsten Partikel und Verunreinigungen zu entfernen. Dies bietet Herstellern innovativer Reinigungsgeräte einen größeren Spielraum.
• Wachsende Nachfrage nach HalbleiternDie steigende Nachfrage nach intelligenter Elektronik, künstlicher Intelligenz, dem Internet der Dinge (IoT) und fortschrittlichen Technologien wird voraussichtlich eine schnelle Einführung von Halbleiterbauelementen ermöglichen und die Nachfrage nach Wafer-Reinigungsgeräten ankurbeln.
• Zunehmende Anwendung in Schwellenmärkten Die Nachfrage nach Wafer-Reinigungsgeräten bei Herstellern von medizinischen Geräten, Flachbildschirmen und Solarzellen bietet rasant steigende Aussichten auf ein Wachstum des Marktes für Wafer-Reinigungsgeräte.

Regionale Analyse des globalen Marktes für Wafer-Reinigungsgeräte

Hier ist eine detailliertere regionale Analyse des globalen Marktes für Wafer-Reinigungsgeräte

Nordamerika

• Das steigende verfügbare Einkommen in Entwicklungsländern wie den Vereinigten Staaten (USA) erleichtert die Einführung von Smartphones, Smart Wearables und anderer intelligenter Elektronik und schafft eine enorme Nachfrage nach Halbleitern. Die zunehmende Implementierung dieser fortschrittlichen Technologien im Alltag wird daher wahrscheinlich die Verkaufszahlen von Waferreinigungsgeräten in der Region in die Höhe treiben.
• Außerdem zwingt die wachsende Beliebtheit miniaturisierter und tragbarer Geräte, die einfach zu bedienen und ansprechend aussehen, die Mikrochiphersteller in der Region dazu, sich um die Herstellung kleinerer Chips zu bemühen. Die Reinigung dieser winzigen Technologien bietet bessere Expansionsaussichten für den Markt.
• Insgesamt verhelfen diese Faktoren Nordamerika zu einem signifikanten Wachstum auf dem globalen Markt für Waferreinigungsgeräte.

Asien-Pazifik

• Analysten zufolge wird der Asien-Pazifik-Raum im Prognosezeitraum den Markt für Waferreinigungsgeräte voraussichtlich dominieren. Die florierende Halbleiterindustrie in Schwellenländern wie China, Taiwan, Japan und Südkorea ist einer der Hauptfaktoren, die zur Vorherrschaft der Region auf dem globalen Markt für Waferreinigungsgeräte beitragen.
• Die leichte Verfügbarkeit von Rohstoffen, günstige Arbeitskosten und die Entstehung von Fertigungsanlagen sind alles weitere Aspekte, die das Wachstum des Marktes in den kommenden Jahren voraussichtlich ankurbeln werden.
• So kündigte das in Tokio ansässige Unternehmen Showa Denko KK im März 2022 die Großproduktion von 150 mm großen Siliziumkarbid-Einkristall-Wafern (SiC-Wafer) zur Integration in SiC-Leistungshalbleiter an. Solche Erfolge sind ein Glücksfall für den Markt für Waferreinigungsgeräte im asiatisch-pazifischen Raum, um seine Position auf der globalen Plattform zu stärken.

Globaler Markt für WaferreinigungsgeräteSegmentierungsanalyse

Der globale Markt für Waferreinigungsgeräte ist nach Wafergröße, Technologie, Ausrüstung, Betriebsmodus, Anwendung und Geografie segmentiert.

Markt für Waferreinigungsgeräte nach Wafergröße

• ≤ 150 mm
• 200 mm
• 300 mm

Auf Grundlage der Wafergröße wird der Markt in ≤ 150 mm, 200 mm und 300 mm unterteilt. Das Segment der 300-mm-Wafergröße wird voraussichtlich den größten Marktanteil halten. Die höhere Aufnahmekapazität für integrierte Schaltkreise von 300-mm-Wafergrößen wird voraussichtlich die Nachfrage nach ihnen steigern. Dies wird voraussichtlich die Produktivität bei günstigen Kosten steigern und so die Verwendung von 300-mm-Wafern bei Elektronik- und Halbleiterherstellern auf der ganzen Welt erhöhen.

Markt für Wafer-Reinigungsgeräte, nach Technologie

• Nasschemisches Reinigungsverfahren
• Dampf-Trocken-Reinigungsverfahren
• Wässriges Reinigungsverfahren
• Reinigungsverfahren mit kryogenen Aerosolen und überkritischen Flüssigkeiten
• Neue Technologien

Basierend auf der Technologie ist der Markt in nasschemisches Reinigungsverfahren, Dampf-Trocken-Reinigungsverfahren, wäßriges Reinigungsverfahren, Reinigungsverfahren mit kryogenen Aerosolen und überkritischen Flüssigkeiten und neue Technologien unterteilt. Die Megasonic-Reinigungstechnologie verwendet hochfrequente Schallwellen in einem flüssigen Medium, um Wafer zu bewegen und Verunreinigungen zu entfernen. Plasmabasierte Reinigungsverfahren beinhalten die Verwendung ionisierter Gase, um Partikel und Verunreinigungen von Waferoberflächen zu entfernen. Laserreinigung wird eingesetzt, um Verunreinigungen selektiv von Wafern abzutragen und zu entfernen, ohne das darunterliegende Material zu beschädigen. Die neue Technologie der Nanoreinigung konzentriert sich auf die Reinigung auf Nanoebene und verwendet fortschrittliche Techniken wie Atomlagenätzen und Atomlagenabscheidung zur präzisen und kontrollierten Entfernung von Verunreinigungen. Mit zunehmender Betonung der ökologischen Nachhaltigkeit zielen neue Technologien bei Waferreinigungsgeräten darauf ab, umweltfreundliche und energieeffiziente Reinigungsprozesse zu entwickeln, die den Einsatz gefährlicher Chemikalien reduzieren und den Wasserverbrauch minimieren.

Markt für Waferreinigungsgeräte, nach Geräten

• Einzelwafer-Sprühsystem
• Einzelwafer-Kryosysteme
• Batch-Tauchreinigungssysteme
• Batch-Sprühreinigungssystem
• Ultraschallreinigungsgeräte
• Wäscher

Basierend auf den Geräten ist der Markt in Einzelwafer-Sprühsysteme, Einzelwafer-Kryosysteme, Batch-Tauchreinigungssysteme, Batch-Sprühreinigungssysteme und Wäscher unterteilt. Das Einzelwafer-Sprühsystem hat die Leistung in Geräten verbessert und die Wahrscheinlichkeit von Verunreinigungen und Beschädigungen der Wafer verringert. Diese Faktoren werden diesen Markt voraussichtlich in naher Zukunft antreiben. Daher wird erwartet, dass das Segment der Einzelwafer-Sprühsysteme im Prognosezeitraum mit der höchsten durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate wächst.

Markt für Waferreinigungsgeräte nach Betriebsmodus

• Automatisch
• Halbautomatisch
• Manuell

Basierend auf dem Betriebsmodus ist der globale Markt für Waferreinigungsgeräte in Automatisch, Halbautomatisch und Manuell unterteilt. Das automatische Segment wird voraussichtlich das Betriebsmodussegment dominieren. Die schnellere Reinigung, die qualitativ hochwertige Reinigung und die höhere Effizienz automatischer Reinigungsgeräte treiben ihre Anwendung in der Halbleiterindustrie voran. Auch weniger menschliche Eingriffe zur Vermeidung von Fehlern, Verbesserung der Leistung und Vermeidung der Abhängigkeit von Facharbeitern werden wahrscheinlich enorme Chancen für die automatische Waferreinigungsausrüstung schaffen. Während das automatische Segment voraussichtlich eine herausragende Position auf dem Markt für Waferreinigungsgeräte einnehmen wird, wird die Nachfrage nach halbautomatischen und manuellen Segmenten weiterhin wachsen. Sie sind dort nützlich, wo die Kosten für automatische Geräte nicht budgetfreundlich sind.

Markt für Wafer-Reinigungsgeräte, nach Anwendung

• Mikroelektromechanische Systeme (MEMS)
• CMOS-Bildsensor (CIS)
• Speicher
• Logik
• Interposer
• Radiofrequenzgeräte (RF)
• Leuchtdiode (LED)
• Sonstige

Basierend auf der Anwendung ist der Markt in MEMS, CIS, Speicher, RF-Geräte und Sonstiges unterteilt. MEMS-Geräte erfordern saubere und präzise Herstellungsprozesse, weshalb Wafer-Reinigungsgeräte für ihre Produktion unverzichtbar sind. CIS-Geräte, die häufig in Kameras und Bildgebungssystemen verwendet werden, sind auf saubere Wafer angewiesen, um eine hohe Bildqualität und Leistung zu gewährleisten. Wafer-Reinigungsgeräte sind für die Produktion von Speichergeräten wie NAND-Flash-Speicher von entscheidender Bedeutung, um deren Funktionalität und Zuverlässigkeit aufrechtzuerhalten. HF-Geräte, einschließlich Filter und Transceiver, erfordern saubere Wafer, um eine optimale Leistung in drahtlosen Kommunikationssystemen zu gewährleisten. Die LED-Industrie verwendet Wafer-Reinigungsgeräte, um die Qualität und Effizienz von LED-Wafern aufrechtzuerhalten und so die Herstellung leistungsstarker Beleuchtungslösungen zu ermöglichen.

Markt für Wafer-Reinigungsgeräte nach Geografie

• Nordamerika
• Europa
• Asien-Pazifik
• Rest der Welt

Auf der Grundlage regionaler Analysen wird der globale Markt für Wafer-Reinigungsgeräte in Nordamerika, Europa, Asien-Pazifik und Rest der Welt unterteilt. Schwellenländer im Asien-Pazifik-Raum, darunter Japan, Südkorea und Taiwan, sind die führenden Hersteller elektronischer Geräte. Daher wird erwartet, dass der Asien-Pazifik-Raum einen großen Beitrag zum Wachstum der Branche leistet. Regionen wie Nordamerika werden voraussichtlich dem Asien-Pazifik-Raum folgen und ein leichtes Wachstum aufweisen.

Wichtige Akteure

Der Studienbericht „Globaler Markt für Wafer-Reinigungsgeräte“ bietet wertvolle Einblicke mit Schwerpunkt auf dem globalen Markt. Die wichtigsten Akteure auf dem Markt sind Shibaurau Mechatronics Corporation, LAM Research, Applied Material, SCREEN Holdings Co., Ltd., Tokyo Electron Limited, PVA TePLA AG, KLA Corporation, Entegris Inc., SEMES Co. Ltd., Modutek Corporation, AXUS Technology, Ultron Systems, Inc., Semsysco GmbH, Cleaning Technologies Group, Dainichi Shoji KK, RENA Technologies GmbH, Beijing TSD Semiconductor Equipment Co., Ltd., Toho Kasei Co., Ltd., Orbray Co., Ltd. und Veeco Instruments.

Unsere Marktanalyse umfasst einen Abschnitt, der speziell diesen Themen gewidmet ist und in dem unsere Analysten einen Überblick über die Finanzberichte der einzelnen Akteure sowie Produkt-Benchmarking und SWOT-Analysen geben. Wichtige Entwicklungsstrategien, Marktanteilsanalysen und Marktpositionierungsanalysen der oben genannten Akteure weltweit sind ebenfalls im Abschnitt Wettbewerbslandschaft enthalten.

Wichtige Entwicklungen auf dem Markt für Waferreinigungsgeräte

• Im Februar 2023 hat Veeco Epiluvac AB übernommen, um seinen Eintritt in den schnell wachsenden Markt für Siliziumkarbid-(SiC)-Epitaxiegeräte zu beschleunigen. Durch die Übernahme von Epiluvac AB beabsichtigt Veeco, seine Position und Marktpräsenz im Bereich der SiC-Epitaxiegeräte zu stärken.
• Im Juli 2023 schloss Tokyo Electron Limited den Bau seines neuen Gebäudes in der Präfektur Yamanashi ab. Diese Erweiterung soll die Entwicklung neuer Produkte für die Halbleiterindustrie unterstützen.
• Im Januar 2023 gab SCREEN Holding Co., Ltd die Fertigstellung seines neuen Gebäudes „S-Cube 4“ zur Herstellung von Halbleiterausrüstung bekannt.
• Im April 2023 erhielt Amtech Systems, Inc. mehrere Aufträge für 300 mm große horizontale Diskussionsgeräte. Dieser Auftrag im Wert von 9,7 Millionen US-Dollar könnte möglicherweise bis Mitte des Geschäftsjahres 2024 ausgeliefert werden. Zu den Funktionen dieses Diskussionssystems gehören die Widerstandsfähigkeit gegen Waferrutschen und die Effizienz bei höheren Temperaturen. Dadurch steigt die Nachfrage nach diesen Systemen in Nordamerika und im asiatisch-pazifischen Raum.
• Im April 2023 gab Noel Technologies bekannt, dass es seine Waferfabrik in Campbell erweitern werde. Diese Erweiterung ist ein Segen für OEMs von Halbleitern, führende Hersteller integrierter Geräte und Unternehmen ohne Fabriken. Darüber hinaus hat Pure Wafer beschlossen, in die Campbell-Anlage von Noel Technologies zu investieren, um die MEMS- und Bioengineering-Dienste zu verbessern und so die Anforderungen der US-Halbleiterhersteller und ihrer OEMs zu erfüllen.v

Berichtsumfang

Forschungsmethodik der Marktforschung