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全球直接成像光刻系统市场规模(按技术类型、按应用、按最终用户行业、按地理范围和预测)


Published on: 2024-09-08 | No of Pages : 240 | Industry : latest trending Report

Publisher : MIR | Format : PDF&Excel

全球直接成像光刻系统市场规模(按技术类型、按应用、按最终用户行业、按地理范围和预测)

直接成像光刻系统市场规模及预测

直接成像光刻系统市场规模在 2023 年价值 109 亿美元,预计到 2030 年将达到 287 亿美元,在 2024-2030 年预测期内以 15.30% 的复合年增长率增长。

全球直接成像光刻系统市场驱动因素

直接成像光刻系统市场的增长和发展归因于某些主要市场驱动因素。这些因素对集成气体系统在不同行业的需求和采用方式有很大影响。主要的市场力量包括:

  • 技术进步:随着制造商寻求更有效、更准确的成像解决方案,市场可能受到光刻技术不断发展的推动,包括分辨率、准确度和速度的提高。
  • 对更高性能设备的需求:为了在半导体晶圆上生成更小、更紧密封装的组件,光刻方法必须变得越来越复杂,以满足对高性能电子设备日益增长的需求。
  • 小型化趋势:由于半导体制造中特征尺寸减小的趋势和电子元件小型化的趋势,直接成像光刻方法可能变得更加流行。
  • 经济高效的解决方案:如果直接图像光刻系统能够提供比其他技术更实惠的解决方案,则它们可能是推动市场采用的主要力量。
  • 集成电路复杂性不断增加:由于技术进步在汽车、人工智能、物联网等多个行业中,集成电路复杂度不断上升。这可能导致对能够处理复杂设计的更先进的光刻设备的需求。
  • 新兴市场:由于这些地区半导体制造业的扩张以及全球对电子产品的需求不断增长,直接图像光刻系统的市场可能会增长。
  • 政府举措和投资:半导体行业对先进光刻技术的采用可能会受到政府举措、补贴或研发支出的影响。
  • 环境问题:随着环保意识和立法的提高,可能会推动开发更加生态友好的光刻系统,例如使用环保材料或方法的光刻系统。
  • 全球供应链动态:光刻系统的市场动态可能会受到影响全球半导体供应链的事件的影响,例如贸易法规、地缘政治考虑以及原材料供应中断材料。

全球直接成像光刻系统市场限制

直接成像光刻系统市场有很大的增长空间,但行业中存在一些限制,可能会使其更难实现增长。行业利益相关者必须理解这些困难。重大的市场限制包括:

  • 初始成本高:规模较小的半导体制造商或预算较紧的企业可能会发现难以获取和部署直接图像光刻系统,因为需要初始投资,有时甚至需要大量投资。
  • 技术的快速变化:半导体行业以其技术的快速变化而闻名。如果直接成像光刻系统由于新技术的出现而过快过时,则可能会给制造商带来问题。
  • 分辨率有限:与其他替代光刻技术相比,直接成像光刻设备的分辨率能力可能受到限制,这对于需要极小细节的应用来说可能是个问题。
  • 实施复杂性:将直接图像光刻设备集成并优化到当前的半导体制造工艺中可能很困难。这种复杂性可能会阻碍接受或导致执行困难。
  • 维护和运营成本:这些费用可能相当可观,并会阻碍某些业务的发展,其中包括需要合格的员工来运行和维护系统。
  • 缺乏标准化:间接图像光刻技术,缺乏标准化会导致兼容性问题,并限制各种设备和程序协同工作的能力。
  • 环境问题:某些光刻技术可能会使用潜在有害的材料或程序。由于环境法规或担忧,某些直接图像光刻系统可能不会被采用。
  • 全球经济状况:世界经济的低迷或不确定性可能导致技术投资减少,这可能会对半导体制造商的收购选择产生影响。
  • 专利和知识产权:专利和知识产权问题有时可能会使某些直接图像光刻技术难以被广泛采用。
  • 全球供应链中断:意外事件、自然灾害或地缘政治问题都可能导致全球供应链中断,从而影响直接图像光刻系统重要部件的供应。

全球直接成像光刻系统市场细分分析

全球直接成像光刻系统市场根据应用、最终用途行业、等级和地理位置进行细分。

直接成像光刻系统市场,按技术类型划分

  • 无掩模光刻:无需光掩模即可将图案直接成像到基板上的系统,即无掩模光刻。
  • 基于光掩模的光刻:基于光掩模的系统,用于将图案转移到基板上。

直接成像光刻系统市场,按应用划分

  • 半导体制造:为制造半导体器件而创建的系统称为半导体制造系统。
  • 印刷电路板 (PCB):专为 PCB 生产设计的直接图像光刻系统。MEMS(微机电系统):专为生产 MEMS 器件而设计的系统。

直接成像光刻系统市场,按最终用户行业划分

  • 电子和半导体:服务于大型半导体和电子行业的系统部门。
  • 汽车:直接成像光刻系统用于生产汽车零部件。
  • 电信:专为电信行业创建的系统。

按地区划分的直接成像光刻系统市场

  • 北美:按美国、加拿大等地域划分的市场细分。
  • 欧洲:欧洲各国划分。
  • 亚太地区:涵盖亚太地区各国的市场部门。

主要参与者

直接成像光刻系统市场的主要参与者有:

  • Orbotech
  • ORC Manufacturing
  • SCREEN
  • Manz
  • SUSS MicroTec
  • Leica Microsystems
  • Kulicke & Soffa
  • ASML
  • EV Group
  • 尼康公司
  • 佳能
  • 三菱电机

报告范围

报告属性详细信息
研究期

2020-2030

基准年

2023

预测期

2024-2030

历史时期

2020-2022

单位

价值(十亿美元)

主要公司简介

Orbotech、ORC Manufacturing、SCREEN、Manz、SUSS MicroTec、Leica Microsystems、Kulicke & Soffa、ASML、EV Group、Nikon Corporation、Canon、Mitsubishi Electric

涵盖的细分市场

应用、最终用途行业、等级和地理位置

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